半導體激光測試儀產品下載說明:RLT-LDC 產品介紹: 睿光科技RLT系列半導體激光測試儀,是半導體激光器模塊組件在研發、生產、檢驗過程中必不可少的測試設備。它可以快速、準確、方便的測量半導體激光器的各項性能參數,包括:閾值電流、斜率效率、串聯電阻、中心波長、線寬、跟隨系數等。同時,半導體激光器的特性與溫度相關,RLT系列半導體激光測試儀還可以通過激光器內置的半導體制冷器或外置的制冷模塊穩定地控制激光器的溫度。為了進一步提高工業化生產效率,RLT系列半導體激光測試儀還提供了集成化的自檢、校準、設置型號參數、自動化測試、數據保存與分析、對以往數據的回溯和輸出報告等齊備的功能。除上述標準功能之外,基于測試儀的模塊化設計,使用者還可以根據實際需求對測試儀添加定制化功能。? 產品特點: 1. 產品設計來源于生產實際需求,基于實際使用經驗 2.規范的測試流程,嚴格的定標過程,保證測量數據的一致性 3.完善的操作提示和功能限定,確保生產安全 4.支持多種封裝形式的LD 5.針對客戶需求,提供定制化服務 6.使用標準19寸機箱,萬向調節vesa支架 測試數據示例
激光功率計產品下載說明:RLT-PM 睿光科技的新系列光電二極管功率計覆蓋了廣泛的功率和波長測量范圍。其種類分為標準、積分球和緊湊型光纖等,能滿足您的特定應用需求。通常,在要求高速響應時間或高分辨率而不需要平坦光譜響應的測試應用中,這些功率計是*佳的選擇。探頭內包含單獨校準并帶有NIMC可追溯校準證書的內置校準曲線信息。 這些光電二極管功率計探頭具有增強的屏蔽特性,能夠防止電磁干擾。配有一套光纖連接件可供選擇,能夠將探頭連接到標準光纖跳線。主要功能特點自動量程切換全波長測量軟件支持多路同時采集可選10/100倍的衰減片提供SDK二次開發包通過USB連接至電腦應用實驗室常規光功率檢測老化測試系統光學系統OEM集成
實驗室設計與工程建設工程背景:????? 實驗室的建設是一項專業化、綜合系統工程,在現代實驗室里,先進的科學儀器和優越完善的實驗環境是提升現代化科技水平,促進科研成果增長的必備條件,睿光科技通過專業的運營體系結合自身工業背景及多年行業認知、實踐積累,成功幫助多家單位及院所建立了專業、完善、標準化的實驗室及其配套工程。實驗室設計與工程:??? ? 隨著科技的發展,不同應用領域對空間環境有了更高且具體的要求,在一定空間范圍內,需將空氣中的微粒子、細菌等污染物排除,并將室內溫度、濕度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動、光照度、靜電控制在某一需求范圍內。針對不同層次、不同應用領域的實驗室,杏林睿光從用戶實際需求出發,通過專業團隊科學、合理、嚴謹的設計與規劃,致力于幫助用戶建設**的實驗室,切實滿足廣大用戶對空間環境與工藝對接**度需求。、?公司資信文件:?高新技術企業認證證書中關村高新技術企業證書機電工程施工總承包貳級證書市政公用工程施工總承包叁級證書特種工程(結構補強)專業承包證書鋼結構工程專業承包叁級證書建筑工程施工總承包叁級證書室內裝飾企業資質等級證書豐臺區“專精特新”證書北京市**試點單位證書ISO 9001:2015 質量管理體系認證證書ISO 14001:2015 環境管理體系認證證書?實驗室設計與工程重要流程:?
共焦球面掃描干涉儀下載產品說明:共焦球面掃描干涉儀產品簡介共焦球面掃描干涉儀是一種高分辨率的光譜分析儀器。由于采用共焦球面腔型,其模式高度簡并,具有衍射損耗小、較大的入射光束接收角、容易準直等特點。內有壓電陶瓷掃描系統,可使監測光源的頻譜直接顯示在示波器上。它特別適合分析激光輸出模譜結構、模競爭、偏振態,監控單頻激光輸出和探測鎖相效應,也可用來分析光譜線輪廓、超精細結構和同位素位移。我公司備有適用波長為532nm、633nm、1630nm的庫存產品,其它波長可以接受定制。?產品型號適用波長(nm)自由光譜區(GHz)精細常數探測器種類干涉儀尺寸(mm)探測器尺寸(mm)電源尺寸(mm)RL-SP116332.5>100硅光探測器Ф50×6054×54×40310×295×115RL-SP126332.5>200硅光探測器Ф50×6054×54×40310×295×115RL-SP215322.5>100硅光探測器Ф50×6054×54×40310×295×115RL-SP225322.5>200硅光探測器Ф50×6054×54×40310×295×115?下載附件:?共焦球面掃描干涉儀?【查看】
實驗室設計:????? 實驗室規劃設計是一項系統工程,無論是新建、擴建、或是改建項目,都不單純是選購合理的儀器設備與實驗家具,還要綜合考慮實驗室的總體規劃、合理布局和平面設計,以及強弱電、給排水、供氣、通風、空調、空氣凈化、安全措施、環境保護等基礎設施和基本條件。睿光科技根據客戶需求,結合用戶實際情況,按照行業標準,為用戶提供**、合理、安全、系統化的設計規劃服務,輕松幫用戶應對不同標準、不同用途下的環境、工藝所需。?? 隨著科技的發展,不同應用領域對空間環境有了更高且具體的要求,在一定空間范圍內,需將空氣中的微粒子、細菌等污染物排除,并將室內溫度、濕度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動、光照度、靜電控制在某一需求范圍內。針對不同層次、不同應用領域的實驗室,杏林睿光從用戶實際需求出發,通過專業團隊科學、合理、嚴謹的設計與規劃,致力于幫助用戶建設**的實驗室,切實滿足廣大用戶對空間環境與工藝對接的**度需求。?實驗室設計與工程優勢:建設工程背景: 實驗室的建設是一項專業化、綜合系統工程,在現代實驗室里,先進的科學儀器和優越完善的實驗環境是提升現代化科技水平,促進科研成果增長的必備條件,睿光科技通過專業的運營體系結合自身工業背景及多年行業認知、實踐積累,成功幫助多家單位及院所建立了專業、完善、標準化的實驗室及其配套工程。光電工業背景: 多年特種激光器研發、制造、環境控制積累,擁有自主化千級超凈間運營經驗與設計工程經驗,能夠設計與匹配專業的實驗室要素,滿足不同用戶“1米內”的特定**需求,提供全方位綜合解決方案。光電教學背景: 多年從事光電、物理、測控類專業教學設備的研發、生產與測試,擁有強大的光電系統集成開發,產品定位緊跟教育教學*新動態、貼合行業人才需求,為不同用戶提供更具有特色的實驗室綜合解決方案。?5大特色——構建實驗室新格局:?****專業的實驗室規劃與設計解決方案NO.2專業的實驗室工程建設解決方案NO.3專業的系統工藝配套對接解決方案NO.4專業的檢測工藝與標準解決方案NO.5專業的系統化交鑰匙解決服務方案??**一體,系統化“交鑰匙“解決方案:合理工程布局:定制化分區,安全、**、環保、美觀環境類檢測與監控:幫助客戶建立量化可評估的標準化實驗室新風系統:*佳空氣調節匹配凈化過濾系統:初/中/高/超**過濾凈化,滿足不同凈化指標凈化設計與保護:正負壓控制、潔凈維護配套多元增值服務:水、電、氣等要素多方案解決指標檢測與監控:高精度專業定量檢測,貼合行業標準?團隊與服務:?????? 我們擁有一支專業的設計與工程技術團隊,包含光電、分析儀器、機械、電子、電氣、工程設計、水暖及工程監控等各類專業人員,**服務于不同領域不同層次科研、教學工作者,為廣大用戶提供實驗室設計、實驗室工程、實驗室標準測試方案、實驗室工藝配套等多項增值解決方案,滿足用戶*終系統化需求。?實驗室設計與工程模型:??水系統:通過配套單元實現蒸餾水制備,去離子水制備、反滲水制備、純水制備、高含氧量水制備等,以滿足實驗室不同水類使用需求,水質、水量定量可控?!艏兯到y:通過采用離子交換法、反滲透法,經微過濾及其他物理法深度加工處理產生滿足不同用戶所需的過程用純水。應用于:半導體材料、器件、印刷電路板、集成電路、超純材料、超純化學試劑、實驗室、中試車間、光電產品及其他高科技精微產品?!舫暡ㄒ后w流量計:通過對管線中液體發射與接收編碼的超生信號,當液體流動時,利用時差法測量液體流速、流向,以滿足不同級別的液體測量需求。氣系統:通過配套單元實現特種氣體,例如電子氣體、標準氣、環保氣、無水氣體、低/高溫氣體等二元、多元氣體的安全制備、過濾、檢測、配送等配套服務,根據行業執行標準以滿足實驗室不同種類、不同等級的氣體使用需求?!粞醴治觯嚎捎脕頊y量過程氣體中氧含量,適用于空分裝置、手套箱、半導體制造業、高純度惰性氣體、總氣檢測、氣體混合等環境?!袈饵c、溫度測量:應用在校驗實驗室、流程控制、潔凈室、半導體制造、藥品檢驗室、標準和計量實驗室,對精度、可重復濕度測量及控制要求較高的工業科研應用??蓽y量:溫度、相對濕度、露點/霜點、**濕度 、質量比 、體積比等要素?!舫暡怏w流量檢測:通過超聲波氣體流量計及搭配功能附件,可以滿足用戶不同氣體流量測量需求,應用于:壓縮空氣、腐蝕性氣體、高純度氣體、空分氣體等。??潔凈系統:?????? 杏林睿光提供的實驗室設計與工程涵蓋對各類研究、分析、教學、中試實驗室的室內外環境設計,相關配套工程、凈化空調系統、水系統、電系統、氣系統等。針對凈化系統而言,需對溫度、濕度、照度、潔凈度、靜電等特定要素進行設計與控制,與此同時,關于人員安全、環境安全、設備安全貫穿實驗室設計與工程方案始終。環境類檢測與監控:??塵埃粒子檢測噪聲檢測溫濕度檢測照度檢測壓差檢測?ISO/DIS 14644-1 (國際標準)潔凈室和潔凈區按空氣中懸浮粒子濃度的分級?????? 潔凈室等級標準和國際標準ISO 14644都是根據懸浮粒子濃度這個**指標來劃分潔凈室(區)及相關受控環境中空氣潔凈度的等級,并且僅考慮粒徑限值(低限)在0.1um~5.0um 范圍內呈累積分布的粒子群。根據粒子徑,可以劃分為常規粒子(0.1um~5.0um)、超微粒子(<0.1um)和宏粒子(>5.0um)。???ISO 分級大于等于表中所列粒徑懸浮粒子*大允許濃度(顆/m3)?0.1μm0.2μm?0.3μm??0.5μm1μm?5μm?ISO1 級10?2??————?——?——ISO2 級100?24?104?——?——ISO3 級1000?237?102358?——ISO4 級10000?2370?102035283?——ISO5 級100000?23700?102003520832?29ISO6 級1000000?237000?102000352008320?293ISO7 級?————?——35200083200?2930ISO8 級?————?——3520000832000?29300ISO9 級?————?——352000008320000?293000?工程凈化級別與行業:??行業10級(ISO4)100級(ISO5)1000級(ISO6)10000級(ISO7)100000級(ISO8)半導體制造○○○○生物醫藥○○○半導體裝配○○○高性能光學裝置○○○光學儀器○○超精密印刷○○LED○
光學平板 RL-OT系列光學平板采用三層夾心的蜂窩空心結構。上面板為高導磁不銹鋼材料,既能方便的固定安裝光學實驗器件,又能保證平臺的剛性,平板表面經過精密磨削加工,再加以沙化的亞光處理,可將雜散光的影響減至*低。中間的真蜂窩結構可有效地降低振動的傳遞,起到很好的隔振效果,同時還能提高平板的整體剛性。下層底面為碳鋼,通過邊墻將平臺整體封裝,外形美觀的同時還可防塵,表面防銹,保證實驗室的整體清潔。平臺的尺寸請見下表,其他尺寸的產品還可定制,包括外形,厚度,孔距等, 歡迎您聯系我們。主要指標表面材料:高導磁磁不銹鋼,表面沙化處理平面度:0.1mm/m2固定孔:公制M6螺孔,25×25mm厚度:50mm固有頻率:3~6Hz 產品型號規格(mm)安裝孔孔距(mm)臺面重量(kg)RL-OT-0604-5-B600X300X50M62523RL-OT-0606-5-B600X600X50M62533RL-OT-0906-8-B900X600X50M62553RL-OT-1208-5-B1200X800X50M62546RL-OT-1212-5-B1200X1200X50M625134RL-OT-0806-5-B800X600X50M62561RL-OT-1509-5-B1500X900X50M625173
科研潔凈實驗室案例1科研潔凈實驗室案例2產研中試車間案例1產研中試車間案例2教學實驗室案例1教學實驗室案例2
光學平臺 RL-OT系列光學平臺上層臺面采用三層夾心的蜂窩空心結構。臺面上面板為高導磁不銹鋼材料,既能方便的固定安裝光學實驗器件,又能保證平臺的剛性,平板表面經過精密磨削加工,再加以沙化的亞光處理,可將雜散光的影響減至*低;平臺可配套安裝激光防護墻,可保護實驗人員并避免平臺間光路的相互干擾,拆卸方便。中間的真蜂窩結構可有效地降低振動的傳遞,起到很好的隔振效果,同時還能提高平板的整體剛性。下層底面為碳鋼,通過邊墻將平臺整體封裝,外形美觀的同時還可防塵,表面防銹,保證實驗室的整體清潔。平臺支架為整體焊接式結構,其上方采用三加一支撐構造,可消除地面不平引起的高度誤差,升降高度可達25mm,并配有腳輪,方便移動。平臺的尺寸請見下表,其他尺寸的產品還可定制,包括外形,厚度,孔距等, 歡迎您聯系我們。主要指標表面材料:高導磁磁不銹鋼,表面沙化處理平面度:0.1mm/m2固定孔:公制M6螺孔,25×25mm厚度:150~200mm固有頻率:3~6Hz 產品型號規格(mm)臺面總高度(mm)安裝孔孔距(mm)備注RL-OT-1208-15-RW1200X800X150800M6254支撐、帶支架、腳輪RL-OT-1510-20-R1500X1000X200800M6254支撐、帶支架、腳輪RL-OT-1810-20-R1800X1000X200800M6254支撐、帶支架、腳輪RL-OT-1812-20-R1800X1200X200800M6254支撐、帶支架、腳輪RL-OT-2010-20-R2000X1000X200800M6254支撐、帶支架、腳輪RL-OT-2412-20-R2400X1200X200800M6254支撐、帶支架、腳輪
LE-RI07 激光散斑測量與應用綜合實驗實驗簡介 激光散斑測量技術是現代光學計量技術,具有全場、非接觸、高精度、高靈敏度、抗干擾能力強和工作穩定可靠等優點。激光散斑測量是《信息光學》的重要章節,散斑計量技術向實時、高速及自動化方向發展并被廣泛應用于工業生產中。 RealLight?采用工業上成熟的散斑測量技術,并加入精密的軟件計算模塊,使其具有通用性強、測量精度高、頻率范圍寬及測量簡便等優點。本實驗是光電專業學生掌握散斑干涉測量內容理想實驗系統。實驗內容1、激光散斑測量透鏡焦距實驗;2、激光散斑照相實驗;3、激光散斑測量微小位移實驗;4、激光散斑測量微小形變實驗。知識點相干子波疊加、散斑干涉測量技術、圖像相減、圖像濾波、圖像二值化、數字圖像處理技術、光學信息處理等。選配設備參數1、計算機(基本配置);2、光學平臺:四支撐,M6螺孔25mm,1200×800×100mm光學平臺,平面粗糙度不大于0.8um,平面度不大于0.05mm/m 。主要設備參數1.光源組件:氦氖激光器:P>1.5mW,TEM00,全保護安全高壓插頭,雙開關設計(安全鑰匙、按鍵)符合CE要求。2.光學器件:擴束鏡:Φ6.3mm,f=-6.3mm;可調衰減器:Φ50mm,光密度OD:0~3.0;全鋁反射鏡:Φ25.4mm,Tc=4mm。分光棱鏡:25.4mm×25.4mm×25.4mm,AR@400nm~700nm;分光光楔:外形Ф40mm,分光比為1:9;3.機械組件:配套調節支座、支桿;激光管夾持器:可夾物體的直徑Φ25~Φ50mm,V型高精度調節鏡架:穩定性<2′;磁性表座:外形61×51×55mm,吸力45kg;外形35*30*35,吸力25kg;散斑被測物:中心高170mm,總高235mm,直徑130mm;4.探測器組件CMOS相機:分辨率1280×1024,像素大小5.2μm×5.2μm,USB2.0接口。CCTV鏡頭:f=25mm,F1.4,2/3"。5.精密相移器(B型)相移器*大驅動電壓:150V,*大標稱行程:6um,靈敏度:40nm/V,*小可調整的間隔:5V,分辨率:12位。6.軟件功能:包含被測物變形前后的相位圖,以及變形前后的相位差圖模塊;(A型)對相位差圖圖像處理模塊,解包裹模塊,三維顯示模塊等(B型)。
RLE-CA07 激光混頻與光學參量振蕩實驗 光學混頻是指兩束或兩束以上不同頻率的單色強光同時入射到非線性介質后,通過介質的兩次或更高次非線性電極化系數的耦合,產生光學和頻與光學差頻光波的現象。而光學參量振蕩(optical parametric oscillation)是指由多波混頻產生的非線性光學效應。光學參量振蕩是二階非線性光學混頻過程。其中三波混頻的光學參量放大與振蕩研究得*多,并已廣泛用于可調諧激光的產生?! ”緦嶒灴梢宰寣W生掌握《非線性光學》、《激光原理》等課程的重要知識點,采用微片激光器和TEC溫控平臺組進行晶體調節,開放性強,便于深入開展激光應用技術的研究?!嶒瀮热荩?nbsp; 1、脈沖倍頻諧振腔設計與非線性晶體轉換效率的計算; 2、 532nm 二倍頻實驗,光光轉換效率曲線測量; 3、 355nm 晶體三倍頻實驗與光譜測量; 4、 266nm 晶體四倍頻; 5、光束參量震蕩 OPO 諧振腔的搭建與調整; 6、 OPO 輸出波長調諧實驗; 7、 OPO 的波長功率特性實驗。知識點: 倍頻、三倍頻、四倍頻、和頻、相位匹配角、光學參量振蕩(OPO)、雙折射效應?! ∵x配參數: 計算機(基本配置)?! ≈饕O備參數: 1.基頻微片激光器: 輸出波長1064nm,重復頻率500Hz,單脈沖能量150μJ,脈沖寬度1.5ns, M2因子1.2,光束模式TEM00,偏振特性>100:1,功率穩定性<±1%。包含TEC溫控功能的脈沖調制LD驅動電源,上升下降時間<10μs, TTL調制輸入,串口控制接口?! ?.TEC晶體溫控平臺: 半導體制冷晶體控溫平臺,溫控范圍: 20℃~40℃,溫控精度: 0.1℃,溫控尺寸40×20mm,上位機軟件設置溫度并顯示溫度曲線?! ?.光學組件: 3-1 晶體: KTP晶體1塊、 LBO晶體2塊、 BBO晶體1塊、 OPO晶體1塊,平行度10″,有效通光孔徑2mm,**可調; 3-2 OPO輸出鏡: M1鍍膜, S1: 532nmHT, S2: 532nmHT; Signal & Idler –HR。 M2鍍膜,S1:Signal -PR, Idler -HT, S2: Signal -HT, Idler –HT?! ?.紫外可見波段光纖光譜儀: 波長范圍: 250~900nm;光學分辨率: 1.5nm;狹縫: 25μm;光纖連接器: SMA905;探 測器: 2048像元陣列CCD,每個像元14μm×200μm;信噪比: 2000: 1;全光譜; A/D分 辨率: 12bit;積分時間: 4ms~6.5s; USB通訊與供電,無需外部電源;通過CE認證;具備外觸發功能;功耗: 250mA, 5VDC;尺寸: 91mm×60mm×34.5mm;重量: 0.3kg?! ?.可編程功率計: 顯示屏顯示內容為測量波長、自動/手動量程模式、當前功率測量檔位;支持六擋量程;測量波長范圍250nm~1100nm,功率*大量程200mW;提供實時功率顯示,長期功率檢測,并顯示測量時長、測量時間內的功率變化曲線,提供*大值、*小值顯示,可導出excel數據; USB2.0操作通訊接口?! ?.激光防護鏡組件: 進口吸波納米材料與PC合成,光密度值較高,衰減率較高,吸收式防護,全方位保護各種波段的激光和強光,光學安全性能完全滿足GJB1762-93標準?! ?.機械組件: 四維晶體調節架,中心高50mm,穩定性<2′; 精密光學導軌: L×W=450mm×90mm,配套滑塊; 專用實驗機箱,厚鋁制面包板,外部烤漆處理,內部黑色無光漆面處理?! ?.實驗手冊及保修卡。
視覺是人類觀察世界和認知世界的重要手段,人類通過眼睛和大腦來獲取、處理與理解視覺信息。機器視覺是用計算機實現人的視覺功能---對客觀世界的三維場景的感知、識別和理解,通過一幅或多幅圖像認知周圍環境信息。如今,中國正成為世界機器視覺發展*活躍的地區之一,應用范圍涵蓋了工業、農業、醫藥、軍事、航天、氣象、天文、公安、交通、安全、科研等國民經濟的各個行業。其重要原因是中國已經成為全球制造業的加工中心,高要求的零部件加工及其相應的先進生產線,使許多具有國際先進水平的機器視覺系統和應用經驗也進入了中國。國內機器視覺市場11年開始啟動,13年開始呈現爆發式增長,2014年中國市場規模80億,2015年預計200億甚至更多。 睿光科技推出機器視覺測量綜合實訓系統,緊貼《視覺測量》、《光電檢測》、《圖像檢測技術》等教材核心知識點。實訓內容從機器視覺的構成原理出發,包括光源、鏡頭、相機(包括CCD相機和CMOS相機)相關訓練內容,以及機器視覺在現實工業上的相關實例應用。通過學習與操作該實訓系統,可以使學生感受實際光機電控制系統的組成、功能及控制原理,全面掌握光機電一體化技術的應用開發和集成技術,激發學生的學習興趣,鍛煉學生的創新及研發能力,從而使學生更能勝任將來的工作崗位,為自動化行業輸出更多的高新技術人才,助力行業新發展。工位一、CCD基礎訓練工位CCD原理與應用是《光電子學》課程重要章節,也是教學的難點章節,該工位采用模塊化、開放式設計,直觀展現了線陣、面陣CCD的工作原理,并且設置了工程實踐常用的測試項目內容,是學生認識和理解CCD工作原理與實際應用的理想教學系統.實訓內容:1、線陣CCD驅動與特性測量;2、面陣CCD驅動與特性測量;3、工件尺寸測量;4、圖像采集與數據點運算。工位二、照明光源測試工位在機器視覺尺寸檢測系統中,方案的好壞往往會決定整個系統的成敗,采用不同的光源,對檢測精度有著重要的影響。光源和照明設計涉及三個主要方面:光源的種類和特性、目標及其背景的光反射和傳送特性、光源的結構。本工位是對LED線光源、環形光源、面光源等光源對機器視覺尺寸檢測精度的影響進行了研究。實訓內容:1、背景照明光源測試;2、明場照明光源測試;3、暗照明光源測試;4、不同波長照明測試。工位三、成像鏡頭選取與標定訓練工位相機標定是指建立相機圖像像素位置與場景點位置之間的關系,其途徑是根據相機模型,由已知特征點的圖像坐標和世界坐標求解相機的密性參數。本工位讓學生采用兩種鏡頭分別進行不同標定,讓學生了解不同鏡頭的應用方向。實訓內容:1、點陣標定測試;2、棋盤格標定測試;3、遠心鏡頭標定測試;4、成像鏡頭選取訓練。工位四、工件二維尺寸檢測工位隨著科技發展,對各種工件和零件的測量精度越來越高,對測量儀器的要求越來越苛刻,二維影像測量技術是對傳統的測量技術的飛躍性發展,是將傳統的光學投影和計算機**結合的產物。本工位是讓學生操作影像測量儀,利用測頭對模具進行數據采集,之后傳送到計算機,計算機再根據對模具的圖像空間幾何坐標設計和轉換,計算得到模具的尺寸、大小和形狀等。實訓內容:1、二維影像系統標定;2、建立坐標系與測試基準;3、工件尺寸測量;4、形狀公差自動測量;5、位置公差自動測量。工位五、機器視覺識別與定位工位圖像識別就是從圖像中找出與已知模式相似的目標圖像,即識別出物體并確定出它在整幅圖像中的位置和方向,在視覺定位檢測系統中,能夠準確識別產品的方向和位置是系統的核心。本工位讓學生學習并熟悉Blob分析,獲取目標位置、形狀、方向和目標間的拓撲關系等信息,并根據信息對目標進行識別。實訓內容:1、顏色識別訓練;2、Blob分析應用;3、旋轉平臺定位。工位六、被動立體視覺與三維顯示工位三維攝像在電影、電視節目制作、無人設備的操作等場合有著重要的價值與廣闊的應用前景。本工位采用雙目攝像架構,實現立體圖像的實時采集與再現,通過雙目立體實時采集系統的搭建與調試,可以讓學生在理解立體成像原理的同時針對不同顯示質量對人眼視覺舒適度差異進行測評。實訓內容:1、被動立體視覺系統搭建;2、被動立體視覺標定;3、立體成像系統評測;4、立體視覺感知評測。工位七、三維體感與人機交互訓練工位體感技術是人機交互技術的重要發展方向。本工位的教學目的是讓學生掌握手勢識別與人機交互的機理與流程,熟悉人手與背景分割的原理,及影響體感人機交互準確度的因素,為從事人機交互研究與實踐工作打下堅實基礎。實訓內容:1.手部色坐標檢測與色差分析;2.圖像畸變校正測量;3.手部分割原理訓練;4.體感人機交互訓練。工位八、面結構光投影三維數字化測量工位三維測量技術在逆向工程、物體變形分析、仿生學、人體檢測等領域具有重要價值和應用前景。本工位應用面結構光投影技術、相位輪廓術、立體視覺技術,可實現物體三維形貌的高精度測量。該工位理論知識涉及實驗教學系統、三維建模、生物醫學、文化影視動漫,以及工業品三維測量等領域。實訓內容:1、三維測量系統標定;2、工件三維測量;3、點云數據封裝;4、立體模型數字造型。工位九、3D打印訓練工位3D打印技術又稱“快速成型技術”,是一種綜合計算機、激光、新材料、CAD/CAM集成等技術的全新制造技術。過去常在模具制造、工業設計等領域被用于制造模型,現正逐漸用于一些產品的直接制造。本工位訓練學生以一種數字模型文件為基礎,運用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料,通過逐層打印的方式來構造物體。實訓內容:1、3D打印工件的視覺檢測;2、FDM三維打印訓練;3、三維獲取與建模;4、3D打印原理培訓。工位十、智能相機參數實訓工位(B型)智能工業相機是融入DSP、FPGA、存儲技術的高集成度、小型化的機器視覺系統。它將圖像的采集、處理與通信功能集成于單一相機內,從而提供了具有小型化、多能、脫離PC、高可靠性的機器視覺解決方案,廣泛應用于汽車行業檢測、電子設備、印刷機械、紡織機械、數控機床、激光加工、精密測量、包裝設備、醫藥設備檢測等領域。實訓內容:1、智能相機參數選??;2、二值化與邊緣檢測;3、模板匹配實驗;4、幾何尺寸測量;5、二維碼識別;6、字符識別。工位十一、視覺引導機器手臂實訓工位(B型)機器手臂是機器人技術領域中得到*廣泛實際應用的自動化機械裝置。機器手臂能夠接受指令,精確地定位到三維(或二維)空間上的某一點進行作業,在工業制造、醫學治療、娛樂服務、軍事、半導體制造以及太空探索等領域都能見到它的身影。本工位讓學生了解機器手臂標定過程,并操作六維自由度機器手臂實現工件識別、抓取、擺放等訓練。實訓內容:1、機器手臂標定;2、相機標定匹配;3、不同形狀、工件分類識別、抓取和擺放;4、基于圖像識別的配件組裝;5、搬運和組裝過程中的一維碼、二維碼檢測。工位十二、CCD相機參數測量與校正工位(C型)根據行業標準EMVA1288的要求,每個圖像探測器都需要對其量子效率、暗電流、線性度、不均勻性、光譜相應度進行測量。依據詳細的檢測結果對相機的各個參數進行校正才能獲得滿意的采集效果。本工位的檢測設備適用于手機攝像頭、工業相機廠家,對其產品進行檢測。工位設備由美國藍菲公司提供,具有高可靠性、高穩定性、高準確性的特點。實訓內容:1、相對量子效率曲線測試與光源選??;2、圖像不均勻性測試;3、探測器響應線性度測試;4、探測器暗噪聲評估;5、相機暗場校正;6、相機成像鏡頭平場校正;7、彩色相機白平衡測試與校正。
工業相機產品下載說明:RL-CM RL-CM系列工業相機采用集成化機構設計,整機重量只有40g,USB2.0接口數據傳輸高速穩定。本相機適用于各種機器視覺應用,例如:表面檢測、定位、缺陷檢測、測量、OCR、一維碼,二維碼讀取等;也適合各種桌面應用,如顯微鏡應用等。 主要功能特點黑白/彩色可選增益、曝光時間、幀率、圖像尺寸可調自動曝光/自動增益(AEC/AGC)行業標準的MiniUSB2.0/USB3.0接口,配套使用的配件可選 應用 工業機器視覺3D視覺成像科學研究生物圖像識別虛擬現實
RLE-RI05 光纖光柵(FBG)傳感與分布式測量創新實驗 實驗簡介 RealLight?布拉格光纖光柵傳感及應用實驗系統,是專門為高等院校和實驗室學習和研究光纖光柵傳感而開發,旨在介紹光纖光柵的基本特性和光纖光柵傳感的基本原理,本實驗系統配置了高精度溫控臺、多功能等強度懸臂梁及光纖光柵解調儀(基于可調諧F-P濾波器),可完成光纖光柵對溫度、微位移的靈敏度標定及分布式。 實驗內容1、光纖布拉格光柵反射波長測量實驗;2、光纖布拉格光柵反射率測量實驗;3、光纖布拉格光柵帶寬測量實驗;4、光纖光柵溫度靈敏度標定及分布式測量實驗;5、光纖光柵微位移靈敏度標定及分布式測量實驗;6、光纖光柵微載荷靈敏度標定及分布式測量實驗。知識點布拉格條件、耦合模理論、光纖光柵封裝技術、傳感技術、解調原理、溫度標定及分布式測量、應變標定及分布式測量。 選配設備參數計算機(基本配置)。 主要設備參數1.FBG溫度傳感器:波長范圍:1510~1590nm,-3dB帶寬:0.25nm,溫度分辨率:0.05℃,測溫精度0.5℃,測溫范圍:-40~80℃,插入損耗:0.5dB,連接器:SC/APC。2.FBG應力傳感器:波長范圍:1510~1590nm,-3dB帶寬:0.25nm,應變測溫精度:1‰,應變測量范圍:-1500~1500,εμ測溫范圍:-40~80℃,插入損耗:0.5dB,連接器:SC/APC。3.光纖光柵解調儀:解調范圍1530~1560nm, 8通道,掃描頻率20Hz,精度10pm,分辨率2pm。3-1ASE光源組件:工作波長1527~1565nm,輸出功率10dBm~13dBm,光譜密度-11~8dBm/nm,光譜平坦度≤1.5dB,光譜穩定度≤±0.0005(15min),輸出功率穩定性≤±0.02(8h)。3-2可調諧F-P濾波器組件:工作波長1520-1570nm,自由光譜范圍143.6nm,3dB帶寬0.0383nm,標準精細度4000,插入損耗<2.5dB,輸入功率9mw。3-3F-P標準具組件:工作波長1525~1565nm,精細度7,插入損耗<3dB,自由光譜100GHz±5%,熱穩定性≤±3GHz。3-4光電探測器組件:光敏面直徑60um,光譜響應范圍900~1700nm,響應時間≤1ns,工作電壓15V,正向電流10mA。3-5數據采集卡組件:分辨率16位,采樣率2MS/s(單)、1MS/s(多),定時精度50ppm/采樣率,定時分辨率10ns,輸入FIFO容量4095個采樣。4.等強度懸臂梁:外開尺寸:360×80×300mm,懸梁長度:258mm、厚度:6mm,千分絲桿:行程25mm、精度0.01mm。5.溫控臺:雙路獨立控溫,溫控范圍:20℃~60℃,溫控精度:0.1℃,發熱面積50×50mm,軟件設置溫度并顯示溫度曲線。6.軟件組件:光纖光柵光譜特性測量(反射波長、反射率、帶寬),光纖光柵溫度、應力傳感器標定,溫度、應力分布的實時采集和測量。7.實驗手冊及保修卡。
RLE-GA06 光學三維傳感面型測量綜合實驗實驗簡介光學三維傳感是指用光學的手段獲取物體三維空間信息的方法和技術,在機器視覺、實物仿形、工業測量、生物醫學、影視特效、虛擬現實等領域具有重要意義和廣闊應用前景。本實驗系統采用開放性設計,融合RealLight?專業標定技術,創新性的分別使用激光線結構光和光柵面結構光兩種主動三維傳感方法對物體進行三維面型測量。通過實驗讓學生充分理解并掌握線、面結構光三維傳感的工作原理及不同測量方法的特點,是光電、測控相關專業的理想教學實驗系統。實驗內容 1、激光線掃描三維測量系統搭建實驗;2、激光線掃描三維測量系統標定實驗;3、激光三角法測量原理實驗;4、線結構光測量物體三維面型實驗;5、光柵面結構光三維測量系統搭建實驗;6、光柵面結構光三維測量系統標定實驗;7、相位輪廓術原理實驗;8、光柵面結構光測量物體三維面型實驗。知識點主動三維傳感,相機標定,激光線掃描,激光三角法,相位輪廓術,同名點匹配。選配設備參數計算機(基本配置)主要設備參數1.白光光源:色溫3200k,功能:可連續調光,冷卻方式:風冷,工作噪音: ≤50dB,輸出光強: 3000lx,尺寸:長×寬×高: 110mm×170mm×200mm。2.線激光器: 650nm, 2mW,線長200mm,線寬0.5mm,焦距150mm。3.控制器:兩相步進電機控制器,*高輸出頻率5kHz, AC220V輸入,運動模式:連續模式與單步模式可切換,驅動電流*大3A,細分數*大64,通訊方式USB轉RS232,顯示方式: 2行液晶,工作環境溫度-10~+45℃,環境相對濕度45~85%RH,帶上位機軟件以及SDK。4.電控平移臺:行程100mm,臺面60×60mm,分辨率0.001mm,重復定位精度<0.005mm,*大承重: 3Kg。5.CMOS相機:分辨率1280×1024,量化深度10bit,像素大小5.um×5.2um, miniUSB2.0接口。6.鏡頭: f=16mm, F1:1.4。7.光柵: 2c/mm,正弦光柵。8.光學組件:準直透鏡: Φ=40mm, f=150mm。9.機械調整架:配套調節支座、支桿,高精度調節鏡架,穩定性<2’。10.實驗儀器外殼:外形尺寸: 720mm×550mm×220mm,前開門展開角度80°,上開蓋氣動支桿連接,展開角度130°, 12mm厚鋁制面包板。11.軟件組件:步進電機控制模塊:可控制電機移動,回零位,按設定步長、時間間隔移動三維標定功能模塊:棋盤格標定板兩種方法標定視場,精度0.1mm圖像采集模塊:可顯示圖像,可控制相機采集時間間隔,與步進電機移動頻率匹配,自動完成圖像采集三維數據處理模塊:可顯示三維點云數據,可保存數據成三維處理軟件通用格式,三維圖像重現模塊。12.實驗手冊及保修卡。
RLE-CA06 半導體激光器件參數測量系統 實驗簡介 半導體激光器件參數測量實驗是以《半導體器件物理》、《激光原理》為指導教材,針對理工科電子科學與技術專業、光電子專業、微電子專業的教學計劃,開發的一套專業教學系統。 半導體激光器件參數測量實驗的教學目的是使學生掌握半導體器件的基本結構、物理原理和特性,熟悉半導體激光器的工藝和參數測試,為進一步學習相關的專業課程打下堅實基礎。同時,RealLight?的半導體器件參數測量系統也可為廣大科研用戶提供半導體激光器參數測試平臺。 實驗內容1、半導體激光器原理及封裝結構的學習;2、半導體測試儀使用說明的學習;3、半導體測試儀的功率校準;4、半導體激光器PIV 特性曲線測試;5、半導體激光器閾值電流測試;6、半導體激光器工作電流測試;7、半導體激光器工作電壓測試;8、半導體激光器斜率效率測試;9、半導體激光器串聯電阻測試;10、半導體激光器輸出光功率測試;11、半導體激光器峰值波長測試;12、半導體激光器中心波長測試;13、半導體激光器譜寬度測試;14、半導體激光器輸出功率不穩定度測試;15、半導體激光器主激光扭折(Kink)測試;16、半導體激光器中心波長的一致性分析;17、半導體激光器光功率的一致性分析;18、半導體激光器閾值電流和工作電流的一致性分析;19、半導體激光器斜率效率的一致性分析。知識點半導體激光器封裝結構、半導體激光器電參數(閾值電流Ith、工作電流Io、工作電壓Vo、背光電流PD、串聯電阻Rt 等),半導體激光器光參數(斜率效率Es、光電效率Ep、中心波長、峰值波長、半高全寬)、控制器電壓Vtec、溫度控制器電流Itec、波長- 溫度漂移系數測定、功率- 溫度漂移系數測定、國家標準功率傳遞定標過程、半導體激光器時間特性、Kink 分析。 選配設備參數 主要設備參數1.光功率探測范圍1~800mW,分辨率0.01mW,準確度±1%。2.電壓的分辨率:0.01V;準確度:1mV+1%;電流的分辨率:0.001A;準確度:1mA+1%;TEC溫控范圍:10℃~40℃;TEC溫度的分辨率:0.1℃;恒流條件下熱平衡后,顯示值與設定值之差小于0.2℃;激光器模組內PD電流測量范圍0-2000uA,分辨率:0.1μA。3.光譜測量的波長范圍350nm~1000nm(其它波長可訂制);光譜測量的中心波長的分辨率1nm,準確度0.2nm,重復性0.1nm;光譜測量的半高全寬的分辨率0.3nm,重復性5%。4.探測器組件:響應波長400-1100nm,高線性度光電二極管,修正光譜響應曲線。5.光纖光譜儀:波長范圍:350-1000nm;光學分辨率:1nm;狹縫:25um;光纖連接器:SMA905;探測器:2048線陣CCD,每個像元14×200μm;信噪比:2000:1全光譜;A/D分辨率:12bit;積分時間:4ms-6.5s;USB通訊與供電,無需外部電源;通過CE認證;具備外觸發功能;功耗:250mA,5VDC;尺寸:91mm×60mm×34.5mm;重量:0.3kg。6.工控機組件:12寸5U標準機箱封裝,win7、32位系統。7.測試積分球:測試儀積分球:使用高反射率漫反射涂料Spectraflectò,有效光譜范圍:350-2400nm,反射率>98%@600nm,熱穩定性100℃,激光損傷閾值1.7J/cm2,內徑50mm,三開口,無擋板,采樣口配置防塵蓋,矩形外形設計,便于加持使用。8.軟件組件:進行P-I-V測試,繪制P-I-V曲線,測量激光器輸出功率Po、閾值電流Ith、工作電流Io、工作電壓Vo、背光電流PD、串聯電阻Rt、斜率效率Es、溫控TEC電流Itec、溫控TEC電壓Vtec、對比不同狀態測試結果、可測光譜中心波長、光譜寬度、峰值波長、可直接輸出軟件數據。9.機柜:12U標準機柜,外形600×800×600mm,上蓋帶vesa接口,可安裝顯示器支架,可三維調整。SPCC優質冷軋鋼板,兼容ETSI標準,符合IEC297-2。10.半導體激光器測試樣品:10-1、2針TO同軸封裝光纖耦合半導體激光器,中心波長650nm,光纖9μm單模,0.14NA,3mmPVC護套,輸出接口FC/PC,輸出功率60mW;10-2、2針BCK封裝光纖耦合半導體激光器,中心波長808nm,光纖60μm,0.22NA,3mmPVC護套,輸出接口FC/PC,輸出功率約500mW;10-3、14針BTF蝶形封裝光纖耦合半導體激光器,中心波長980nm,光纖60μm,0.22NA,3mmPVC護套,輸出接口FC/PC,輸出功率約500mW,帶內部PD。11.實驗手冊及保修卡。
RLE-CH06 傅里葉基礎與光學圖像處理綜合實驗 實驗簡介: 本實驗系統除了研究光學傅里葉變換、4F系統以及空間濾波等經典知識,還創新性的加入了泰伯效應、圖像加減、光學微分等知識點,將抽象的數學推導,轉化為生動具體的物理現象,幫助學生理解并掌握信息光學中的基本原理。本系統適用于高校光電專業本科生《信息光學》《工程光學》等相關課程。 實驗內容:1、典型圖案的傅里葉變換實驗;2、阿貝成像與空間濾波實驗;3、θ調制與偽彩色編碼實驗;4、泰伯效應的應用實驗;5、光學圖像相加減實驗;6、基于復合光柵的光學微分處理實驗。知識點:傅里葉變換、夫瑯禾費衍射、阿貝成像原理、偽彩色編碼、泰伯距離、泰伯效應、4F系統、空間濾波、傅里葉變換、圖像加減、圖像微分。 選配設備參數: 主要設備參數:1.光源組件:光纖耦合激光器:650nm,P>1.5mW,單模光纖,芯徑4μm,TEM00,3mmPVC 光纖保護套,光纖接頭FC/PC,光纖長度50cm。光纖準直鏡:通光口徑Φ30mm,接口FC/PC,用于光纖耦合激光器的光束準直。白光LED:P>1W,亮度連續可調。2. 光學器件:一維光柵:6 線/mm、50 線/mm,45×60mm;復合光柵:100/102 線/mm,Δv=2L/mm,45×60mm;天安門光柵:100 線/mm;正交光柵:6C/mm;衍射圖案版:多邊形圖案,精度1um;雙凸透鏡:Φ40mm,f=150mm。3. 機械組件:精密光學導軌:L×W=1200×90mm,配套滑塊、一維移動滑塊、調節支座、支桿;精密側推平移臺:65×65mm 臺面,二維側推,行程±12.5mm,讀數精度0.01mm。圖像加減目標物:80×100mm4. 探測器組件:圖像采集模塊:CCD 相機,靶面尺寸:1/3 英寸,分辨率537×597,工作溫度:-20℃ ~+55℃,BNC 接口。圖像顯示模塊:分辨率800×600,供電12V,3A,BNC 接口,屏幕比率4:3,屏幕尺寸:12 寸。5. 傅里葉光學基礎教學軟件:夫瑯禾費衍射模擬模塊、泰伯效應模擬模塊、光學圖像加減模擬模塊、圖像微分模擬模塊等。6. 實驗手冊及保修卡。
接受行業特殊技術配置,功率5KW以上。應用領域覆蓋航空、航天、兵器、機載、艦載、雷達、船舶、機車、通信及科研等領域。
譜學是一門主要涉及物理學及化學的重要交叉學科,通過光譜來研究電磁波與物質之間的相互作用。光譜學并不僅是一門基礎科學,在日常應用中它也是一種重要的定性、定量測量方法,廣泛應用于農業、醫藥、環保、化工、印刷、紡織、新能源和半導體工業中。 特別是隨著微型電子電路和網絡技術的發展,過去只能在實驗室內完成的光譜學檢測手段,變得可以工業在線和現場檢測,拓展了新的應用領域。光纖光譜儀作為一種成本低、小型化、穩定性高的分析儀器,具有其它技術難以比擬的優勢,成為我國民生與工農業領域不可或缺的重要設備,國內不少院校開始開設相關課程以滿足光譜產業化發展的人才需求。 針對這個現狀,睿光科技開發了這套光學理論結合行業實踐的光譜創新實訓系統,通過這套系統,讓光電專業學生提前了解理論應用于實踐過程中的問題,并可以作為教師和學生面對廣闊應用的科研開發平臺。工位一、光度學測量工位光度學是度量光的強弱和方向的一門學科,作為照明科學的基礎,本工位使學生加深對光度學基本概念的理解,并熟悉常見的光度測量設備、了解光度學的相關標準與算法。此外,學生還能借此機會熟悉常見的光源。實訓內容:1、光度學基礎知識與光度學測量;2、不同光源電光效率的對比;3、驗證光度學基本定律;4、亮度計測量原理。工位二、輻射度學與**輻射校準工位輻射度學是研究各種電磁輻射強弱的學科,是顏色科學、遙感等學科的基礎。輻射校準*終的目的是將所測量的物理量與國際標準單位中的物理量聯系起來。本工位將通過實際的輻射校準傳遞流程幫助學生理解輻射校準的意義、方法和流程,然后應用輻射校準的結果進行**輻射測量。實訓內容:1、 輻射校準的流程;2、 應用輻射校準;3、 測量鹵素燈的輻射特性。工位三、反射顏色測量工位顏色不僅僅是印刷、紡織等領域的關鍵指標,隨著大眾對日用品外觀要求的提高,在各種日用品的表面處理過程中,例如手機外殼的著色處理流程中對控制和測量顏色提出了更高的要求。本工位通過實際測量,令學生熟悉反射顏色測量的國際標準、光路、測量流程和數值計算,了解工業現場中測量顏色的方式和幾種方法的取舍。此外,學生將通過實驗理解世界何以斑斕多彩。實訓內容:1、反射光譜測量的原理與分類;2、反射式光譜測量光路設計;3、反射譜測量的幾何條件;4、測量實際樣品的顏色。工位四、LED光源色度學測量工位光源的指標中,除了光度學量以外,還有與顏色相關的指標,例如三刺激值、主波長、色溫、顯色指數等。本工位將帶領學生了解顏色科學中與光源有關的國際標準與測量方法。特別是,隨著LED的廣泛應用,本實驗將突出與LED相關的內容,學生通過對多種LED器件的光譜測量了解LED工業檢測標準與方法。實訓內容:1、 測量光源三刺激值;2、 測量色溫與顯色指數;3、 LED主波長,色品坐標的測量;4、 LED的種類與光譜測量;5、 LED測量的幾何條件;6、 工業分選 LED ;7、 光源配色。工位五、透射測量與濾光片測量工位透過率(透射比)是光學鏡片和材料的基本參數。通過搭建光路測量多種材料的透射比,令學生理解透射/損耗測量的基本光路。同時,通過這個工位,學生將了解常用的濾光片并實際了解這些濾光片的基本性能與應用。實訓內容:1、 學習和掌握光譜透射率的定義;2、 學習和掌握濾光玻璃的種類、命名及光譜指標;3、 搭建透射光譜測量光路;4、 測量多種類型濾光玻璃的透射光譜。工位六、分光光度法測量工位分光光度法是化學分析中的標準方法,也是在環保、醫藥、化工等領域中*常見的化學計量學方法之一。通過本工位,學生將了解分光光度法的原理、相關國家標準和算法。通過實際搭建分光光度計完整地了解實際應用,包括分光光度法的校準、測量方法和數據處理等流程。實訓內容:1、 測量光路的搭建;2、 分光光度法校準;3、 分光光度法測量液體濃度;4、 分光光度法定性測量。工位七、熒光光譜測量工位熒光不僅僅被用來照明,還被廣泛地應用于其他多種領域中,如生化與醫藥領域、印刷防偽技術、寶石與礦物學等。特別是,作為化學計量學的應用,熒光光度法對比于紫外可見吸光光度法,有其獨有的特點和優勢。本工位將通過實際操作,特別是搭建和使用熒光光度計介紹熒光現象的原理和應用。實訓內容:1、 學習和掌握熒光光度分析法的基本原理;2、 定性檢測葉綠素及打印紙的熒光;3、 搭建熒光光度計;4、 測量維生素B2的熒光光譜;5、 熒光分光光度分析法用于濃度測量。工位八、薄膜測厚工位在薄膜材料、玻璃制造等多個行業里,薄膜的在線測量必不可少。薄膜測厚是光電技術中‘算法密集型’的應用,應用了光譜預處理方法、回歸算法和傅立葉變換信號處理等處理方法。學生在此工位中通過搭建薄膜測厚的光路,跟隨流程,了解如何從大量的數據中,去除干擾,得到所需要測量的關鍵值的方法。實訓內容:1、 學習和掌握白光干涉測定薄膜厚度的基本原理;2、 使用擬合算法測量單層MgF2增透膜和鍍膜硅片的膜厚;3、 使用快速傅立葉變換算法測量PET薄膜的厚度;4、 自建薄膜樣品的測量方法。工位九、原子發射光譜測量工位原子光譜產生于原子外層電子能級的躍遷,其中原子發射譜是原子核外電子發射光子所形成的光譜。原子發射光譜是很多工業用光譜檢測方法的基礎,例如ICP(電感耦合等離子體光譜),火花光譜(SPARK),火焰光譜,等離子體光譜,化學中的攝譜法等等一系列方法均與原子發射光譜有關。通過對本工位的操作,學生能了解原子發射光譜測量的特點,掌握光譜儀的標定方法。實訓內容:1、 學習和掌握原子發射光譜分析的基本原理;2、 測量多種氣體的發射光譜;3、 利用原子發射譜對光譜儀進行波長校準。工位十、拉曼光譜測量及物質鑒別工位 (B型)拉曼光譜分析是分子成份和結構檢測的主流方法之一,被廣泛地應用于藥品、安全、食品、分析化學和生物學等諸多領域。隨著小型化、低功耗的激光器、光譜儀和光纖光路的出現,拉曼光譜也被廣泛地應用于現場檢測,應用領域層出不窮。學生通過訓練,可以熟悉拉曼光譜測量的基本器件,測試光路,光譜分析等基本知識,為應用拉曼光譜測量打下良好的基礎。實訓內容:1、 學習和掌握拉曼散射的基本原理;2、 認知拉曼光譜測量的基本器件;3、 搭建拉曼光譜光路;4、 測量并分析四氯化碳(CCl4)分子和乙醇溶液的拉曼光譜;5、 拉曼光譜用于各種塑料制品的成分鑒別。工位十一、多通道激光誘導擊穿光譜(LIBS)測量工位(C型)激光誘導擊穿光譜是指采用聚焦的高能量脈沖激光入射到樣品表面,形成等離子體,然后測量自發輻射譜線來判定樣品的元素成分及含量的方法。與傳統檢測方法相比,LIBS的優勢在于無需樣品制備,可實現非接觸式的無損檢測,且檢測過程簡單、快速,很容易被現場操作,因此廣泛應用于環保、地礦、生物醫學、植物學、空間探索、鋼鐵冶煉冶金等領域。本工位采用多通道光纖光譜儀,配套同步觸發的脈沖固體激光器和采樣系統,學生可自由設計、搭建,實現對多種鋁、鎂、銅合金樣品或其他輕質元素的測量和數據分析。實訓內容:1、學習和掌握LIBS的基本原理;2、多通道光纖光譜儀采集系統搭建;3、脈沖固體激光器的參數調整;4、測量合金樣品LIBS;5、LIBS數據庫建立與成分鑒別。
RL-Sphere積分球產品下載說明:RL-Sphere RL-Sphere積分球采用高反射率漫反射涂料Spectraflect,特殊噴涂工藝,有效光譜范圍300-2400nm,反射率>96%@600nm,熱穩定性達100℃,激光損傷閾值1.7J/cm2。Spectraflect涂料擁有近乎**的朗伯特性,經久耐用,確保了積分球的使用壽命和品質。 標準透射式積分球設有兩個90°垂直的光口,并配置一個可靈活安裝的SMA905光纖接口。標準反射式積分球設有三個光口,輸入端口配置光纖準直鏡,垂直光路8°激發置于探測端口的樣品,輸出端口配置SMA905光纖接口。主要功能特點高朗伯特性寬光譜范圍穩定性高反射率可溯源至NIST 光譜范圍300-2400nm應用反射率/透射率測量LED光源測試顏色測量紅外反射
RLE-SA06 晶體電光、聲光、磁光效應實驗 實驗簡介 晶體在電場、磁場、應力的作用下會產生雙折射效應,利用此效應可以測量相關物理量,也可以實現對光的相位和強度進行調制。晶體的電光、聲光、磁光效應是*常見的三種調制現象,RealLight?將這三個知識點融合在一起開發本實驗,便于教師講授相關知識點以及學生通過實驗現象來橫向比較實驗原理。 實驗內容1、晶體電光語音傳輸實驗;2、晶體的錐光干涉圖實驗;3、晶體電光半波電壓測量實驗;4、晶體聲光調制衍射效率實驗;5、晶體的聲光解調實驗;6、晶體聲光調制衍射角度測量實驗;7、晶體中聲速測量實驗;8、晶體聲光調制語音傳輸實驗;9、偏振光旋向判斷實驗;10、晶體磁光維爾德常數測量實驗。知識點偏振光、晶體的雙折射、偏振片、波片、布拉格衍射、半波電壓、晶體的電光/聲光/磁光效應。 選配設備參數 數字示波器: 帶寬100MHz,采樣頻率1GHz。 主要設備參數1. 1.光源組件:光纖耦合激光器:650nm,P>1.5mW,單模光纖,芯徑4μm,TEM 00 ,3mmPVC光纖保護套,光纖接頭FC/PC,光纖長度50cm;固體激光器:輸出功率10mW,中心波長532nm,光束直徑1.5mm,光束發散角1mrad,光束指向穩定性0.05mrad,功率穩定性<3%。2.電光晶體組件:晶體類型:鈮酸鋰,3mm×4mm×35mm,雙面濺射電極;實驗電源:0~600V可調,內置正弦信號0~5KHz,調制幅度0~3V可調。3.聲光晶體組件:材料:TeO2,工作波長650nm,工作頻率:100MHz,外控信號偏置可調,增益可調;通光孔徑1mm,衍射效率:≥80%@100MHz,光透過率:≥95%,工作頻率:100±0.1MHz;工作頻率帶寬:±10MHz,調制帶寬:>1MHz;射頻連接方式:SMA;聲光電源:電壓24V,電流1A。4.磁光晶體組件:磁光晶體:ZF7,Φ5×50mm、Φ5×20mm;高性能永磁體:釹鐵硼N38H,端面磁場強度>1.1T。5.光學組件:偏振片:Φ25.4mm,K9玻璃窗口,AR@400nm~700nm,消光比>400:1;石英波片:Φ25.4mm,石英晶體,光潔度Ⅲ級,精度:30″。6.探測器組件:可編程功率計:顯示屏顯示內容為測量波長、自動/手動量程模式、衰減窗口狀態、當前功率測量檔位;測量精度0.1uW,分辨率0.1uW,支持六擋量程;測量波長范圍200nm-1100nm,功率測量范圍0-40mW(裸探測器)/0-2W(衰減窗口);提供實時功率顯示,長期功率檢測,并顯示測量時長、測量時間內的功率變化曲線,提供*大值、*小值顯示,可導出excel數據;USB2.0操作通訊接口。光電接收模塊:響應波長400nm~1100nm;音頻信號輸出:MP3,5V供電,含音箱。7.機械組件:精密光學導軌:L×W=1200mm×90mm,配套滑塊、一維平移滑塊、調節支座、支桿;高精度調節鏡架;8.光纖準直鏡:通光孔徑Φ1mm,接口FC/PC,用于光纖耦合激光器的光束準直。9.實驗手冊及保修卡。
RLE-CB05 光纖通信原理綜合實驗實驗簡介 近年來,光纖通信一直持續高速發展,迅速成熟并得到廣泛應用,為通信網絡提供了難以想象的傳輸帶寬,成為信息網絡*主要的傳輸手段。RealLight?光纖通信原理綜合實驗,裝置結構緊湊,采用主板加模塊化結構,同時內置獨立的光功率計與誤碼儀模塊,方便實驗操作。 本實驗是緊貼《光纖通信》等相關課程的專業配套實驗,豐富的實驗內容可充分滿足光電及通信專業的實驗教學需求,是學生學習光纖通信基本原理和相關技術的基礎實驗設備。實驗內容1、 光發射機性能測試實驗;2、 光接收機性能測試實驗;3、 模擬信號光纖傳輸實驗;4、 數字信號光纖傳輸實驗;5、 圖像光纖傳輸實驗;6、 通信眼圖觀測實驗;7、 位同步提取實驗;8、 CMI 編譯碼及光纖傳輸實驗;9、 HDB3 編譯碼及光纖傳輸實驗;10、擾碼及解碼實驗。知識點光發射機P-I 特性/消光比/平均光功率、光接收機靈敏度/動態范圍、誤碼率、眼圖、模擬信號光纖傳輸、數字信號光纖傳輸、位同步提取、CMI 編譯碼、HDB3 編譯碼、擾碼及解碼。 選配設備參數1、示波器:100MHz 帶寬,1GHz 采樣頻率;2、萬用表。主要設備參數1.實驗外箱:塑料密封箱,外形尺寸:539x398x174mm,防水防塵。2.主控模塊:配置LED-TFT真彩液晶屏,可以調度和設置實驗模塊以及模塊狀態查詢。3.信號源模塊:提供了模擬、數字、同步等信號源功能,包含:正弦波: 頻率范圍:0~5MHz,幅度范圍:0~5V;三角波:頻率范圍:0~100KHz,幅度范圍:0~5V;方波:頻率范圍:0~100KHz,幅度范圍:0~5V;PN序列:碼長15/127位,碼速率范圍:1kbps~2048kbps;NRZ信號:4路數據信息位可通過撥碼開關自行設置的NRZ信號,碼速率2kbps~4096kbps;時鐘信號速率范圍:1KHz~2048KHz。4.數字終端&時分多址模塊:提供四路八位的可手動設置的數字信號源,且四路數字信號源還可以復用成一路輸出。5.基帶傳輸編譯碼模塊:提供CMI、HDB3、加擾解擾等基帶碼型的編碼及譯碼功能。6.載波同步及位同步模塊:提供科斯塔斯環載波同步、濾波法位同步及全數字鎖相環功能。7.光功率計&誤碼儀模塊:光功率計工作波長:1310nm和1550nm,顯示單位:w和dBm,測量范圍-50~5dBm,測量精度±5%,FC接口;誤碼儀可設置四類信號碼型、信號速率(64KHz、128KHz、256 KHz、2048 KHz)、具有計時顯示、誤碼計數、單個插入誤碼和測試狀態指示等功能,誤碼測試精度1e-9。8.光收發模塊:光發射機波長:1310nm,本模塊提供電-光轉換及光-電轉換功能,能對光發射及接收機的參數進行測量,并包含有模擬、數字、圖像等信號光纖傳輸通道接口。9.實驗附件:顯示屏:4.3寸TFT-LED數字高清,分辨率:320(H)xRGBx272(V);攝像頭:CCD芯片600線圖像;170度水平視角;單模光纖跳線:9um芯徑,3mmPVC護套,FC/PC接頭,長度0.3m。10.實驗手冊及保修卡。
RLE-RI04 光纖傳感綜合實驗實驗簡介 光纖傳感利用激光作為敏感信息載體,光纖作為信息傳遞媒質,感知和傳輸外界被測量信號,具有抗干擾、電絕緣等特點。RealLight?依據《傳感器原理與技術》、《光纖技術與應用》、《光電測試技術》、《光電子技術》等教材內容并結合實際工程應用開發了本套實驗設備。該實驗適合測控技術與儀器、光電信息科學與工程、電子科學與技術等專業,作為專業基礎實驗課程進行教學。 實驗內容1、半光纖馬赫曾德干涉儀搭建實驗; 2、全光纖馬赫曾德干涉儀搭建實驗;3、透射式光纖位移傳感器實驗;4、反射式光纖位移傳感器實驗;5、光纖壓力傳感器實驗;6、光纖電流傳感器實驗;知識點光纖馬赫曾德干涉、反射式光纖位移傳感器原理、透射式光纖位移傳感器原理、光纖微彎傳感器原理、光纖電流傳感器。 選配設備參數 主要設備參數1.光源組件:光纖耦合激光器:650nm,P>1.5mW,單模光纖,芯徑4μm,TEM00,3mmPVC光纖保護套,光纖接頭FC/PC,光纖長度50cm。2.光纖組件:光纖分束器:單模光纖,FC插頭,損耗小于3dB,誤差5%;反射式光纖:發射光纖105μm,接收光纖400μm;光纖跳線:單模,芯徑4μm;光纖連接器:FC接頭。3.光學組件:光纖準直鏡頭:FC接頭,光斑Φ7mm;加強鋁反射鏡:Φ40mm,HR@400~700nm;分光棱鏡:25.4mm×25.4mm×25.4mm,450~650nm。4.機械組件:精密光學導軌:L×W=600mm×90mm,配套滑塊、一維移動滑塊、調節支座、支桿;高精度調節鏡架:穩定性<2′,帶光纖固定座;五維晶體調節架:中心高50mm,通光孔徑Ф25.4mm,穩定性<2′;精密平移臺:行程±25mm,滾珠絲杠導軌。5.功率計:可編程功率計:顯示屏顯示內容為測量波長、自動/手動量程模式、衰減窗口狀態、當前功率測量檔位;主機顯示頻率300mS/次,測量精度0.1uW,分辨率0.1uW,支持六擋量程;測量波長范圍200nm-1100nm,功率測量范圍0-40mW(裸探測器)/0-2W(衰減窗口);提供實時功率顯示,長期功率檢測,并顯示測量時長、測量時間內的功率變化曲線,提供*大值、*小值、均值顯示,可導出excel數據,用戶設定功率警報范圍,超出報警提示;USB2.0遠程操作通訊接口。6.光纖電流傳感器組件:包含電流發生器,電磁線圈,全固化電流傳感器模塊。7. 探測器組件:圖像采集模塊:CMOS 相機,靶面尺寸:1/3 英寸,外形尺寸:49×49×70,供電12V,1A 工作溫度:-10~+50°C,BNC 接口。圖像顯示模塊:分辨率800×600,供電12V,3ABNC接口,屏幕比率4:3,屏幕尺寸:12寸。8.實驗手冊及保修卡。
RLE-GA05 視覺定位與跟蹤實驗實驗簡介 體感技術是人機交互技術的重要發展方向。手勢3D識別與互動實驗系統是以《數字圖像處理》、《光學》和《色度學》為指導教材,針對體感技術缺乏實驗教學設備的局限,面向電子科學與技術專業、光電子專業、微電子專業所開發的專業教學系統。 手勢3D識別與互動實驗系統的教學目的是讓學生掌握手勢識別與人機交互的機理與流程,熟悉人手與背景分割的原理,及影響體感人機交互準確度的因素,為從事人機交互研究與實踐工作打下堅實基礎。 實驗內容1、手部色坐標檢測實驗;2、圖像畸變校正實驗;3、手部分割原理實驗;4、體感人機交互實驗。知識點RGB色度體系、Yxy色度體系、HSV色度體系、色坐標、色差、圖像畸變、圖像內/外參數校正、雙目立體視覺結構、圖像分割、目標識別、體感人機交互、人眼空間定位準確性。 主要設備參數1.工業數字相機:分辨率:752(H)x480(V);幀率:60fps;芯片:1/3”幀曝光CMOS;像素尺寸:6.0μm×6.0μm;光譜:彩色;圖像數據格式:MONO8/MONO10/RAW8(Bayer)/RAW10(Bayer);數據接口:MiniUSB2.0;功耗:額定<1W。鏡頭:C接口;機械尺寸:29×29×29mm;不含連接件;工作溫度:0至60°C;工作濕度:10至80%。2.實驗機架:760×760×810mm,采用30×30mm截面硬鋁型材拼接,固定相機,鏡頭及3D顯示器,有可移動遮光罩3.3D顯示屏幕:分辨率:1920(H)×1080(V);3D顯示器,刷新頻率:60HZ幀率;配3D眼鏡。4.數據處理系統:PCI Express 3.0 16X類型圖形處理系統,支持Digital Visual Interface和Video Graphics Array,采用DirectX技術。支持HDT熱管直觸技術,Flex多屏顯示技術。5.棋盤格標定板:材料LY12,厚度6mm,9行×7列,單元格大小40mm。6.軟件模塊功能:輸入手部色坐標范圍,手部目標分割,手勢判定及坐標還原,空間位置視覺判定精度檢驗。7.實驗手冊及保修卡。
RLE-CA05 光纖激光器綜合實驗 實驗簡介 光纖激光器具有體積小、重量輕、光束質量好、效率高和免維護等特點,成為近年來研究和開發中進展*快的一類新型激光器,在工業、醫療、軍事、通信等諸多領域已獲得重要應用,是傳統固體激光器*有力的競爭者。本實驗系統采用模塊化設計,集設計性、綜合性和創新性于一身,既能夠滿足光電信息科學與工程類本科專業開設《激光原理》、《激光器件》等課程相關實驗的需要,也能夠為大學生提供一個開展課外科技創新活動的平臺。 實驗內容1、半導體激光器泵源P-I特性曲線測量實驗;2、前向泵浦光纖激光器搭建與調試實驗;3、光纖激光器輸出功率特性曲線測量實驗;4、LD工作溫度對光纖激光器輸出特性的影響實驗;5、光纖激光器自調Q與自鎖模(時域特性)實驗。知識點LD激光器P-I曲線、LD的溫度特性;光纖模式、模場半徑、數值孔徑(NA)、光纖耦合;光學諧振腔、激光閾值、光-光轉換效率、橫模;可飽和吸收、自調Q、自鎖模、脈寬、重復頻率、峰值功率;自發輻射譜、受激輻射譜、譜線寬度(3dB)。 選配設備參數1.光源組件:激光波長:532nm、1064nm;輸出能量:600mJ(1064nm,靜態),200mJ(1064nm,動態),100mJ(532m,動態);光束發散角:≤5mrad;準直激光器:650nm,P>1mW,光斑輸出1.5mm。2.電源組件:激光電源:觸摸屏控制,充電電壓600V(常規),單路輸出,輸出平均功率1kW,儲能電容:8200μF/450V/,放電頻率1-10HZ連續可調;放電脈寬150-250μs連續可調,調Q延時可調。水冷系統:半導體制冷,溫度自動控制,控溫精度:±0.1℃,液晶顯示控溫溫度,制冷量:300W,水箱容積:3L,循環泵*大流量:10L/min,電源要求:220AV 50Hz。3.探測器組件:高速脈沖探測器模塊:光譜響應曲線400nm~1100nm,響應度5ns,自帶一級放大器;激光能量計:光譜范圍0.19μm~11μm,石墨探頭,四檔量程19.9mJ、199.9mJ、1.999J。*小分辨率10μJ。4.調Q晶體組件:調Q方式:電光調Q;調Q晶體:KD*P晶體;半波電壓:3800V;脈沖寬度:<20ns;配套裝用安裝卡具。5.光學組件:激光輸出鏡Ф20mm,T=80%@1064nm,T=60%@1064nm,T=40%@1064nm,三種透過率;起偏器:Φ30mm,AR@1064nm,消光比500:1;倍頻晶體:KTP,尺寸6x6x5。6.機械組件:精密光學導軌:L×W=600mm×90mm,配套滑塊,高精度調節鏡架;專用的調Q晶體同側四維調整機構,精度0.002mm。7.激光防護鏡組件:防護波段:1064nm&532nm。進口吸波納米材料與PC合成,光密度值較高,衰減率較高,吸收式防護,全方位保護各種波段的激光和強光,光學安全性能完全滿足GJB1762-93標準。8.實驗儀器外殼:外形尺寸:820mm×480mm×350mm,上開蓋氣動支桿連接,展開角度130°,10mm厚鋁制面包板,外部紫色烤漆處理,內部黑色無光漆面處理,單塊鋁合金底座安裝,可配套安裝平板電腦支架;五孔專業排插,工業防雷防浪涌,三級防雷抗電涌;電源支架可放置多款配套電源,并可做器件收納用途。9.實驗手冊及保修卡。
RLE-CH05 光學全息綜合實驗 實驗簡介:RealLight?研制的光學全息綜合實驗涵蓋了全息技術教學中所有的重點和難點知識。光源采用高穩定性的氦氖激光器,擁有超窄光譜特性,不僅可復現傳統全息實驗,而且兼容了彩虹全息的性能要求,讓傳統全息實驗綻放新的光彩。實驗內容:1、全息照相實驗;2、彩虹全息實驗;3、全息資料存儲實驗;4、全息光柵的制作實驗;5、光柵常數測量與驗證實驗。知識點:全息圖的記錄和再現、衍射光柵、全息存儲、傅里葉變換全息圖、彩虹全息、體全息 選配設備參數光學平臺:四支撐,M6螺孔25mm,1200×800×100mm光學平臺,平面粗糙度不大于0.8um,平面度不大于0.05mm/m2。 主要設備參數:1.光源組件:氦氖激光器:P>1.5mW,TEM00,全保護安全高壓插頭,雙開關設計(安全鑰匙、按鍵)符合CE要求。暗室LED安全燈:黃光,燈體6×4.5×5cm,功率0.7W,遙控開關。2.光學器件:雙凸透鏡: Φ40mm, f=150mm;可調衰減器: Φ50mm,光密度OD: 0~3.0;分光光楔:外形Ф40mm,分光比為5:5;外形Ф40mm,分光比為1:9;全息干板:紅敏銀鹽干板及配套藥水;全鋁反射鏡: Φ40mm。3.機械組件:可調狹縫: 90×58mm,縫長60mm, 0~8mm可調;磁性表座轉接板;配套調節支座、支桿;目標物;激光管夾持器:可夾物體的直徑Φ25~Φ50mm, V型;高精度調節鏡架:穩定性<2′;磁性表座:外形61×51×55mm,吸力45kg;精密電子定時曝光器:主機外形尺寸: 165×137×75mm,工作電源:180~230V, 50~60Hz,時間設定范圍: 0.1~999.9s,時間誤差精度: <1ms,含快門;側推平移臺:65×65mm臺面,一維側推,行程±12.5mm,鋼絲滾珠。4.空間濾波器組件:40×顯微物鏡, 25μm針孔,高精度三維調節機構,微調精度0.002mm。5.實驗手冊及保修卡。
RLE-ME05 光的偏振與晶體光學基礎綜合實驗實驗簡介光的偏振與晶體光學基礎是物理光學中重要的知識點,本實驗以光的橫波性為主要研究對象,研究光在晶體中的傳播特性和偏振元件對光的作用。實驗內容全面,知識架構由淺入深,主要包含了偏振光的產生、檢驗、不同偏振光相互轉換、瓊斯矩陣以及不同偏振光的干涉及其應用。通過實驗現象的搭建與測試將原本教學中晦澀抽象的原理直觀展示,與此同時,針對偏振知識點及行業應用進行了深化與提高,填補了原先實驗教學中的空白,是詮釋物理、光電相關專業課程教學大綱知識點的極好實驗平臺。 實驗內容1、線偏光的產生與馬呂斯定律的驗證實驗;2、波片的快慢軸標定實驗;3、偏振光的產生與檢驗實驗;4、不同偏振光相互轉換實驗;5、瓊斯矩陣的表示與計算實驗;6、晶體雙折射與角度測量實驗;7、偏振極坐標的實時測試實驗; (B 型)8、線偏振光與線偏振光的干涉實驗; (B 型)9、同旋圓偏振光的干涉實驗; (B 型)10、不同旋圓偏振光的干涉實驗; (B 型)11、偏振光干涉測量波片延遲量實驗。 (B 型)知識點 偏振光、線偏振光、馬呂斯定律、橢圓偏振光、圓偏振光、不同偏振光的轉換、波晶片、晶體雙折射、尋常光、非尋常光、瓊斯矩陣、左旋右旋、偏振光干涉等。 選配設備參數 計算機(基本配置) 主要設備參數 1.光源組件:光纖耦合激光器:650nm,P>1.5mW,單模光纖,芯徑4μm,TEM 00 ,3mmPVC光纖保護套,光纖接頭FC/PC,光纖長度50cm。2.光學組件:變換透鏡:Φ40mm,f=150mm,光潔度III 級;分光棱鏡:25.4mm*25.4mm*25.4mm,AR@400~700nm;衰減片:透過率T=0.2~10%;窄帶濾光片:半波寬50nm;加強鋁反射鏡:Φ40mm;3.可編程功率計:可編程功率計:顯示屏顯示內容為測量波長、自動/手動量程模式、衰減窗口狀態、當前功率測量檔位;測量精度0.1uW,分辨率0.1uW,支持六擋量程;測量波長范圍200nm-1100nm,功率測量范圍0-40mW(裸探測器)/0-2W(衰減窗口);提供實時功率顯示,長期功率檢測,并顯示測量時長、測量時間內的功率變化曲線,提供*大值、*小值顯示,可導出excel數據;USB2.0操作通訊接口。4.實驗軟件功能模塊:軟件包含六大模塊,分別為線偏光的產生與馬呂斯定律驗證模塊;偏振光的產生與檢驗實驗模塊;不同偏振光相互轉換實驗模塊;偏振極坐標的實時測試實驗模塊;偏振光干涉實驗模塊;以及偏振光干涉測量波片延遲量實驗模塊。5.電控轉臺:(B型)5-1轉臺:行程:360°,Φ60mm的臺面,中心孔為Φ34mm,傳動方式:蝸輪蝸桿(減速比1/180),*大速度:15°/秒,單向定位精度:0.1°,*大承重:3Kg。5-2電控單元:兩相步進電機控制器,*高輸出頻率5KHz,AC220V輸入,運動模式:連續模式與單步模式可切換,驅動電流*大3A,細分數*大64,通訊方式USB轉RS232,顯示方式:2行液晶,工作環境溫度-10~+45℃,環境相對濕度45~85%RH,帶上位機軟件以及SDK。6、COMS相機:(B型)CMOS相機:分辨率1280×1024,像素大小5.2μm×5.2μm,USB2.0接口。7、機械組件:精密光學導軌:L×W=1200mm×90mm,配套滑塊、一維移動滑塊、調節支座、支桿;高精度調節鏡架;CCD可變衰減光闌:C接口;精密調整架:調節半導體激光器準直透鏡;二維可調棱鏡支架;激光管夾持器,二維俯仰可調,*大夾持Φ50mm 。8、實驗手冊及保修。
隨著網絡化信息時代的到來,人們對信息的需求與日俱增,如何提升信息的傳輸帶寬與抗電磁干擾能力一直是各國通信領域所關注的焦點。光通信是一種以光波為傳輸媒質的通信方式,由于其具有傳輸帶寬大、傳輸損耗低,傳輸速度快等特點,使光通信技術在通信基礎網絡建設中占據著主導地位,并承載著通信網絡中80%以上的信息流量。常用的光通信有:大氣激光通信、光纖通信、可見光通信、紅外線通信、紫外線通信等,其中光纖通信技術是以光波作為信息載體,以光導纖維作為傳輸媒介的一種通信技術,基本物質要素是光纖、光源和光檢測器;可見光通信技術是利用熒光燈或發光二極管等發出的人眼分辨不出的高速明暗閃爍信號來傳輸信息的一種傳輸技術,被廣泛應用于照明與通信、視覺信號與數據傳輸等領域。 睿光科技針對目前光電相關專業創新人才培養模式與培養應用型技術人才的教改重點及迫切需求,在結合教學大綱基礎上,以《光纖通訊》、《光通信原理與技術》等課本知識為架構,光通信行業應用為背景,實際企業產線工藝為依托,創新性的推出了可見光與光纖通信實訓系統, 使學生可以由淺入深的觸及光通信的器件、搭建、測試等各工程應用領域實際,實現從理論到行業工藝的對接。工位一、光纖準直器制備與測試工位在自由空間型的光無源器件中,其輸入和輸出光纖端面必須間隔一定距離,以便在光路中插入一些光學元件,從而實現器件功能。光纖準直器即是起到這種作用,它將光纖輸出的束腰半徑較小而發散角較大的光束轉化為腰斑較大而發散角較小的光束,這樣可使兩準直鏡之間保持較長的工作距離。本工位內容涵蓋了光纖準直器的原理、構造、制備工藝及檢測方法,讓學生將理論學習和動手實踐結合起來,同時為后續光無源器件的學習奠定基礎。實訓內容:1、光纖準直器結構認知;2、光纖準直器的組裝工藝;3、光纖準直器偏心角度測量。工位二、光纖熔接訓練工位光纖熔接訓練工位,通過使用光纖制備行業標準化的物料、制備與熔接工具,按照規范的工藝指導流程,使學生完成光纖表面依次處理及熔接加固制備,讓學生在實踐中增進對裸光纖以及常用的熔接制備工藝的認識。過程中引入工程應用中所關注的光纖熔接損耗問題,讓學生針對實際的光纖損耗問題提出解決方案,使教學與實際行業應用相結合。實訓內容:1、掌握光纖熔接機參數設置;2、光纜、護套開剝處理;3、光纖端面制備;4、光纖的接續;5、光纖熔接的補強保護;6、光纖連接損耗的測量。工位三、光時域反射儀訓練工位光時域反射儀(OTDR)是利用光在光纖中傳輸所產生的瑞利散射現象來測量光纖損耗并能全面分析光纖傳輸質量的儀表。OTDR是光纖網絡測試和故障診斷的**工具,然而,它非常復雜,需要具備很多知識和專業技能才能**使用。本工位提供的測試系統是對工程應用中測試現場的模擬,使學生在熟悉OTDR的參數設置和基本操作的同時,還能夠掌握對實際光纖鏈路中可能出現的各種事件的分析方法。實訓內容:1、掌握OTDR測試參數的設置;2、使用OTDR測量光纖長度及損耗;3、使用OTDR觀察APC、PC光纖端面及適配器;4、使用OTDR觀察光纖裂紋;5、使用OTDR觀察事件盲區;6、使用OTDR觀察光纖熔接點(偽增益現象);7、使用OTDR觀察光纖宏彎。工位四、光無源器件測試工位光無源器件是光纖通信設備的重要組成部分,具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性、機械耐磨性等特點,被廣泛應用于通信、區域網絡、光纖到戶、視頻傳輸等領域,本工位主要通過對各種光無源器件的使用與測試,使學生對光無源器件的種類、作用、原理和技術指標有更深入的了解。實訓內容:1、光衰減器特性參數測試;2、光耦合器特性參數測試;3、光環形器特性參數測試;4、光隔離器特性參數測試;5、光波分復用器特性參數測試。工位五、摻鉺光纖放大器特性測量工位摻鉺光纖放大器(EDFA)的誕生是光纖通信領域革命性的突破,它使長距離、大容量、高速率的光纖通信成為可能,是密集波分復用系統及未來高速系統、全光網絡不可缺少的重要器件,其研發和應用,對光纖通信的發展有著重要的意義。本工位能夠使學生加深對EDFA工作原理、基本結構和功能的了解,通過對EDFA的增益、噪聲和泵浦特性的測試,進一步了解EDFA的主要技術參數及測量方法。實訓內容:1、摻餌光纖放大器系統搭建;2、摻餌光纖放大器增益特性測試;3、摻餌光纖放大器噪聲特性測試;4、摻餌光纖放大器泵浦特性測試。工位六、光纖通信系統測試工位近年來,光纖通信一直持續高速發展,迅速成熟并得到廣泛應用,為通信網絡提供了難以想象的傳輸帶寬,成為信息網絡*主要的傳輸手段。光纖通信系統測試工位采用箱式設計,裝置結構緊湊,并采用主板加模塊化結構,同時內置獨立的光功率計與誤碼儀模塊,方便操作。本工位豐富的實訓內容可充分滿足光電及通信專業的教學需求,是學生學習光纖通信基本原理及相關技術的理想設備。實訓內容:1、光發射機、光接收機的性能測試;2、模擬、數字信號的光纖傳輸;3、圖像信息的光纖傳輸;4、通信眼圖的觀測;5、位同步信號的提??;6、CMI、HDB3編譯碼;7、擾碼及解碼。工位七、光纖通信網絡測試工位本工位主要通過使用行業標準化的光電子器件搭建光通信網絡里常用的功能電路和光收發模塊,實現光纖通信網絡的建立,使學生在學習相關理論的同時,通過實際搭建實現音頻、視頻的多方傳輸,從而使學生對光網絡的實際應用有所認識與掌握。實訓內容:1、 光收發系統的搭建;2、 波分復用(WDM)實訓;3、 分插復用(OADM)實訓。工位八、可見光通信系統測試工位(B型)可見光通信采用白光LED作為光源,利用LED燈光承載的高速明暗閃爍信號來傳輸信息??梢姽馔ㄐ攀钦彰髋c通信的深度融合。由于白光LED具有效率高、價格低及壽命長等優點,逐漸取代白熾燈、日光燈成為下一代照明技術已是大勢所趨,固態照明的普及將使可見光通信的光源無處不在,利用LED作為光源的可見光通信技術將站在巨人的肩膀上,隨著LED的發展而高速發展。本工位搭建了一套可見光通信系統,學生可以對其傳輸特性進行測量,并利用這套系統進行音頻信號的推送、接收和顯示,來體驗這一前沿技術。實訓內容:1、白光LED調制特性的測量;2、可見光調制技術(OOK、PPM、PWM);3、誤碼率的測量;4、通信眼圖的觀測;5、音頻信息的可見光傳輸;6、RGB波分復用技術。工位九、 LiFi室內定位與信息推送工位(B型)可見光無線通信(Light Fidelity,LiFi)是一種全新的無線數據傳輸技術,它通過改變房間LED照明光源的閃爍頻率來進行數據傳輸,同時也是一種**吸引力的室內定位技術的解決方案,可應用于大型倉庫里的產品定位檢測、大型建筑物內部的導航服務(博物館、購物中心、停車場)等。本工位將LiFi系統模型化,可實現基于指紋庫法或三角測量法的區域定位,還可進行數據(語音及圖片)的發送與接收,使學生能夠了解和掌握可見光通信這一項前沿技術的基本原理、器件及應用。實訓內容:1、LED陣列光照度仿真;2、LED陣列照度分布測量;3、基于三角測量法的定位測量;4、基于指紋庫法的定位測量;5、基于位置的信息推送;6、基于可見光通信的圖像/語音傳輸。工位十、平面光波導分束器制備工位(C型)本工位主要通過引入光網絡中連接局端和終端設備并實現光信號的分路核心器件:平面波導型光分路器(PLC),讓學生在逐步深化了解集成光學器件制作工藝的同時配合動手實操,為培養應用技術型工程人才提供創新性平臺。實訓內容:1、平面光波導分束器的結構認知;2、平面光波導分束器的組裝工藝;3、平面光波導分束器性能測試。工位十一、波分復用器制備工位(C型)光通信主要以光來運載信號進行傳輸,如何提高傳輸容量以及節約光纖資源等問題一直備受行業所關注,本工位主要針對光通信的波分復用技術(WDM)展開,通過實際的工藝生產指導、檢測,使學生了解并掌握波分復用技術的原理與應用。實訓內容:1、濾波片型波分復用器的結構認知;2、濾波片型波分復用器的組裝工藝;3、濾波片型波分復用器性能測試。
光纖光譜儀產品下載說明:RL-SPEC RL-SPEC系列光纖光譜儀方便攜帶。優化的光路設計。用戶通過選擇不同的光柵配置可以獲得不同的光學分辨率和光譜響應范圍。為了滿足不同的需求,我們提供波長響應范圍為300nm-1100nm 和200nm-1000nm 的探測器供用戶選擇。 主要功能特點 ◆交叉非對稱 C-T 光路結構◆干涉濾光片消二級衍射◆SMA905 光纖接口,方便地通過光纖和其他設備連接◆可選擇的波長范圍0.35nm~1nm、0.1nm~0.3nm的光學分辨率◆USB 2.0 數據傳輸和供電應用發射譜和吸收譜的測量太陽能光譜測試透過率和吸收率的測量激光光譜測試系統LED應用熒光檢測生物醫學其他需要進行光譜測量的領域
RLE-SA04 紅外熱像與熱輻射測量綜合實驗 實驗簡介紅外熱像技術已經在電力系統、土木工程、汽車、冶金、石化、醫療等諸多行業得到廣泛應用。本實驗系統緊扣教學核心知識點,并結合工程實際應用,通過光電轉換、信號處理等手段,檢測目標物體輻射與溫度分部之間的對應聯系,并將之轉換為圖像信息,從而直觀的實現目標物輻射測量。旨在讓學生理解并掌握熱輻射的基本定律,以及紅外成像的工作原理和測量方法,是光電相關專業理想的教學實驗系統。 實驗內容1、黑體輻射特性研究實驗;2、驗證維恩位移定律;3、熱發射率影響因素研究實驗;4、熱發散率的測量。知識點普朗克輻射定律、斯特潘-波爾茲曼定律、維恩位移、光學系統調制函數、溫度分辨率、*小可分辨溫差、光電轉換。 選配設備參數計算機(基本配置)。 主要設備參數 1.黑體標準源: 工作溫度: 0~50℃,傳感器: Pt100鉑電阻,控溫方式: PID,電源電壓:220V,溫度范圍:室溫-60℃,分辨率: 0.1℃,發射率: >0.97,升溫時間:100℃≤30分鐘?! ?.紅外熱像儀: 探測器類型:光讀出非制冷焦平面,分辨率: 80×60,波長范圍: 7.5~14um,視場角: 41°×31°,熱靈敏度(NETD): <0.1℃,調焦方式:免調焦,*大幀頻: 9Hz,測溫范圍: -10℃~+150℃,精度: ±2℃或±2%,取較大值,輻射率校正: 0.1至1.0可調,背景溫度校正;根據輸入環境溫度自動校正;工作溫度: -10℃~+50℃,存儲溫度: -20℃~+60℃,濕度:相對濕度≦85%(非冷凝);觸摸屏:熱圖像:可見光圖像: MSX多波段動態成像;圖庫?! ?.電路修復裝置: 發熱異常探測與修復,發熱異常溫度: 30℃~60℃?! ?.發熱待測裝置: 驅動電壓40V,發熱面積: 16cm2,設置溫度范圍:室溫~60℃,*高可達400℃?! ?.濾光器: HR@380nm~780nm, AR@7μm~14μm; AR@380nm~780nm, HR@7μm~14μm?! ?.精密光學導軌: L×W=600mm×90mm,配套滑塊,調節支座、支桿?! ?.實驗手冊及保修卡。
RLE-CB04 LED可見光通信創新實驗 實驗簡介 可見光通信技術是一種在LED發明及應用后發展起來的新興的無線光通信技術,主要利用可見光波段的光作為信息載體,區別于光纖等有線信道的傳輸介質,而在空氣中直接傳輸光信號的通信方式。本實驗主要通過對可見光調制與解調、特征值測量,使學生直觀的了解可見光通信的工作原理與行業應用。 實驗內容1、白光LED 調制特性測量實驗;2、可見光調制技術實驗(OOK、PPM、PWM);3、誤碼率測量實驗;4、通信眼圖測量實驗;5、音頻傳輸實驗;6、RGB 波分復用技術實驗。知識點可見光通信技術、可見光發光二極管、可見光調制技術、可見光光電探測器、波分復用技術、通信眼圖、誤碼率、信道串擾。 選配設備參數1、計算機(基本配置)。2、示波器: 帶寬:100MHz,采樣率1GSa/s,2 或者4 通道。 主要設備參數1. 可見光LED 光源組件:RGBW 四色燈珠,功率10W( 單顆芯片為3W),發散角:120°~130°,色溫波長:紅光620~630nm、綠光520~530mm、藍光465~480nm,帶支架燈珠透鏡,準直度15°。2.LED 光束整形組件:透鏡:直徑Φ25.4mm,焦距f38.1mm,材料K9,安裝于位移臺,位置軸向可調。3.RGB 分光系統:透紅綠反藍分光鏡:反射波長400~480nm,透射波長500~700nm,尺寸35×35×1.1mm,入射角度45°±5°;透紅反綠分光鏡:反射波長400~580nm, 透射波長600~700nm, 尺寸35×35×1.1mm, 入射角度45°±5°。帶通濾光片:中心波長660nm,半寬度115nm;中心波長530nm,半寬度95nm;中心波長435nm,半寬度100nm。4.LED 光源驅動模塊:工作電壓12V,功率5W,采用NRZ-OOK 調制,傳輸速率20Mbps。5. 語音采集模塊:輸入設備:麥克風,USB 接口連接采集卡,*大傳輸速率:15M/s。6. 探測器組件:通信眼圖探測模塊、調制信號探測模塊、語音傳輸探測模塊:光譜范圍200~1100nm,信噪比0.16pW/Hz,*大響應速度2MHz。7. 機械組件:光學平板,配套可調光闌、鏡架、干板夾、調節支座、支桿、支桿底座等。8.實驗手冊及保修卡。
RLE-RI03 光學薄膜測量綜合實驗實驗簡介 伴隨著21世紀初光電子技術的雪崩式發展,光學薄膜器件的應用向著性能要求和技術難度更高、應用范圍和知識領域更廣、器件種類和需求數量更多的方向迅速發展。為了使學生適應發展需求、拓展知識范圍、增加知識深度、開闊視野和提升能力,RealLight?開發了光學薄膜測量綜合實驗,針對市場上常用的鍍膜片進行研究,從鍍膜的原理到實際樣品的測試,逐步深入,是學生了解光學鍍膜原理和應用的必然之選。 實驗內容1、光譜儀的原理與使用實驗;2、白光干涉測薄膜厚度實驗;3、鍍膜介質折射率測量實驗;4、單層膜特性模擬實驗;5、減反射膜模擬與測試實驗;6、增反射膜模擬與測試實驗;7、截止濾光片模擬與測試實驗;8、帶通濾光片模擬與測試實驗;9、分光鏡模擬與測試實驗;10、帶通濾光片的角特性實驗。知識點減反射膜、加反射膜、金屬膜、分光鏡、二向色鏡、帶通濾光片、白光干涉、薄膜測厚、能量比、反射率、透過率 選配設備參數計算機(基本配置)。 主要設備參數1.光源組件:尺寸:190x150x66mm,光譜范圍:360-2500nm,輸出燈泡:6Watts(3.5mW after 400umfiber),穩定性:0.2% RMS,漂移:0.3% per hour,穩定時間:15min,壽命:2000hrs(燈泡),色溫:3000K,工作溫度:5~40℃,溫度要求:5%~95%,供電:220V/AC,輸出方式:SMA905,工作模式:恒流、緩啟動功能。2.探測器組件:波長范圍:350~1000nm;光學分辨率:1nm;狹縫:25μm;光纖連接器:SMA905;探測器: 2048像元陣列CCD,每個像元14um×200um;信噪比:2000:1;全光譜;A/D分辨率:12bit;積分時間:4ms~6.5s;USB通訊與供電,無需外部電源;通過CE認證;具備外觸發功能;功耗:250mA,5VDC;尺寸:91mm×60mm×34.5mm;重量:0.3kg。3.薄膜測試樣品:減反射膜:鍍單層氟化鎂,全波段增透,透過率增加3%;介質高反膜:*大反射率95%,基材:青板;45°入射;二向色鏡:透紅綠反藍,透紅反綠;S1面AR膜420-680nm@R<1%,S2面二向分光膜;工作波段透射平均值T>95%,工作波段反射平均值R>95%;帶通濾光片:IAD多層介質硬膜,波峰透過T>85%,帶外截止深度OD2-OD4;分光鏡:工藝方式IAD多層介質硬膜;S1面,AR膜工作波段鍍AR膜,R<0.5%;S2面,分光膜;工作波段鍍分光膜,誤差±2%。4.輻射式積分球:使用高反射率漫反射涂料Spectraflectò,有效光譜范圍:350-2400nm,反射率>98%@600nm,熱穩定性100℃,激光損傷閾值1.7J/cm2,內徑50mm,兩開口,采樣口配置防塵蓋和SMA905適配器,矩形外形設計,便于加持使用。5.反射式光纖:反射式光纖跳線:探頭端部采用6繞1光纖束設計,6根照明光纖,中央1根光纖收集反射光;光纖芯徑:200μm;數值孔徑:0.22NA;長度:2m長;鎧甲護套;SMA905接頭。6.光纖準直鏡:適用波段:200~2500nm,Φ6mm通光口徑,SMA905接口,焦長12.7mm,帶微調;7.光纖跳線:光纖芯徑:400μm;數值孔徑:0.22NA;長度:100±10cm;3mm鎧甲護套;SMA905接頭。8.軟件:8-1薄膜測厚軟件:包含光譜預處理方法、回歸算法、擬合算法、傅立葉變換信號處理算法、*小二乘算法,分步測量引導,薄膜測量厚度范圍50nm~50μm。8-2鍍膜仿真與設計軟件組件1)主界面4大功能分區,包括單層膜、減反射膜、介質高反膜和濾光片;2)均可設置基底、介質和介質折射率,改變參數,反射率透過率曲線實時更新。9.實驗手冊及保修卡。
RLE-GA04 三維攝像與顯示綜合實驗實驗簡介 三維攝像在電影、電視節目制作、無人設備的操作等場合有著重要的價值與廣闊的應用前景。三維攝像與顯示綜合實驗采用雙目攝像架構,實現立體圖像的實時采集與再現,通過雙目立體實時采集系統的搭建與調試,可以讓學生在理解立體成像原理的同時針對不同顯示質量對人眼視覺舒適度差異進行測評,整體實驗集理論,動手,探究為一體,是新型顯示技術行業應用于光電相關專業實驗教學的極好范本。 實驗內容1、平行光軸方式的立體攝像與顯示實驗;2、會聚光軸方式的立體攝像與顯示實驗;3 、Pamum 融像區的測量實驗;4、圖像出屏量的測量實驗;5、立體圖像舒適性評價實驗。知識點立體視覺、雙目攝像架構、視差、分辨率、視覺疲勞、客觀作業量表。 選配設備參數 主要設備參數1.3D顯示屏幕分辨率:1920(H)×1080(V);3D顯示器,刷新頻率:60HZ幀率;配3D眼鏡。2.攝像機:分辨率:752(H)x480(V);幀率:60fps;芯片:1/3”幀曝光CMOS;像素尺寸:6.0μm×6.0μm;光譜:彩色;圖像數據格式:MONO8/MONO10/RAW8(Bayer)/RAW10(Bayer);數據接口:MiniUSB2.0;功耗:額定<1W。鏡頭:C接口;機械尺寸:29×29×29mm;不含連接件;工作溫度:0至60°C;工作濕度:10至80%。3.成像鏡頭:FA鏡頭:f=8mm,F1.6,C接口。4.三腳架、云臺、專用拍攝調整架、標準測試圖片組兩組、客觀作業量表。5.軟件模塊:立體拍攝與實時再現模塊,立體標準圖像顯示模塊,立體顯示舒適度測試模塊。6.立體拍攝與實時再現模塊功能:可調整白平衡、曝光時間、電子增益、感光系數、分辨率等參數,并實時再現所拍目標的立體影像。7.立體標準圖像顯示模塊:顯示待評價的標準圖片,便于操作者對顯示系統進行評價。8.立體顯示舒適度測試模塊:顯示標準測試圖片,并在測試前后完成客觀作業量表,根據結果分析不同視差下舒適度,讓操作者學會立體拍攝的優化規律。9.數據處理系統:PCI Express 3.0 16X類型圖形處理系統,支持Digital Visual Interface和Video Graphics Array,采用DirectX技術。支持HDT熱管直觸技術,Flex多屏顯示技術。10.測試工裝:總高度:600mm,可調節范圍:90mm,地板尺寸:300×400mm,材質鋁合金;支架材質不銹鋼,底板低密度板。11.實驗手冊及保修卡。
RLE-CA04 激光光束質量分析與傳輸變換實驗 實驗簡介 根據國際標準化組織(ISO)規定,為了確定激光束傳輸特性,必須測量激光光束寬度、光強分布、發散角以及光束傳輸因子M2,并以此作為激光器光束參數的測量標準。 RealLight? 推出的《激光光束質量分析與傳輸變換實驗》,實驗內容包括激光光束寬度、光強分布、發散角、光束傳輸因子M2的測量以及半導體激光器的準直與整形等,內容符合國家標準且緊貼《激光原理及應用》課程,將理論與實踐相結合,培養學生的動手能力以及工程實踐能力。 實驗內容1、 高斯光束基本參數的測量;2、 高斯光束的傳播特性;3、 高斯光束的擴束準直與聚焦;4、 光束質量分析。知識點高斯光束、截面光強、光束半徑、等相位面、瑞利長度、遠場發散角、 q參數、光束變換、擴束準直、光束質量因子。 選配設備參數1、計算機(基本配置)。 主要設備參數1.光源組件:氦氖激光器:波長632.8nm, P>1.5mW, TEM00,全保護安全高壓插頭,雙開關設計(安全鑰匙、按鍵),符合CE要求。2.光學組件:變換透鏡: Φ40mm, f=350mm,光潔度III級;全鋁反射鏡: Φ40mm;衰減片:透過率T=0.2~10%;窄帶濾光片:半波寬50nm。3.探測器組件:3-1 130萬像素,分辨率1280×1024,黑白,逐行掃描, 1/1.8″,像素大小5.2μm×5.2μm;3-2 光闌: C接口。4.光斑參數測量及計算系統:4-1 光斑質心位置、一維光強分布曲線、能量分布二維偽彩色顯示,三維立體顯示、光斑水平以及垂直寬度。4-2 可計算光斑束腰寬度、束腰位置、遠場發散角、 M2 因子以及瑞利長度, USB2.0軟件鎖。5.機械組件:精密光學導軌: L×W=600mm×90mm,配套滑塊、一維移動滑塊、調節支座、支桿、高精度調節鏡架;電控平移臺及控制器:行程400mm,重復定位精度<0.05mm,負載<10kg;激光管夾持器:二維俯仰可調,*大夾持Φ50mm 。6.實驗手冊及保修卡。
RLE-CH04 液晶空間光調制器及微光學研究實驗 實驗簡介 電尋址液晶空間光調制器(SLM)是新一代的動態光調制器件。SLM的振幅調制功能已經普遍被人所知并應用于光學投影儀中,但SLM的相位調制功能及應用是近些年才逐漸被人們重視,并應用在新一代衍射光學元件(DOE)相關科研和工程上。 本實驗是RealLight?根據光電專業學生所學的《信息光學》、《物理光學》相關課程知識點與*新的前沿技術相結合開發的創新實驗內容,適用于大學光電專業創新實驗課程。 實驗內容1、液晶結構認知與像素尺寸測量;2、液晶分子表面方向分布測量實驗;3、液晶透過率測量實驗;4、SLM振幅調制曲線測量實驗;5、SLM液晶取向測量實驗;6、SLM相位調制模式的參數測量及標定實驗;7、微光學元件設計與測量實驗;8、抑制黑柵效應實驗。知識點電尋址液晶空間光調制器(SLM)、振幅調制、相位調制、光的衍射現象(夫瑯禾費、菲涅爾)、常用光學元件庫、黑柵效應、二元光學元件(DOE)、平頂光束、拉蓋爾光束、渦輪透鏡、衍射級效率。 選配設備參數計算機:為基本配置。 主要設備參數1.光源組件:固體激光器:輸出功率0~20mW,中心波長532±1nm, TEM00, M2≤1.2,光斑1mm,功率穩定性±1%,連續輸出,帶TEC制冷。2.空間光調制器組件:液晶類型LCD,相位調制能力﹥1.2Pi@532nm,靶面尺寸0.63inch,像素尺寸12.5μm,填充因子﹥77%,分辨率1024×768,刷新頻率60Hz/75Hz/85Hz,工作波段400~700nm,灰度階數8位、 256 階,外形尺寸: 82×82×23.2mm,中心開口11.5x14.5mm,集成一體化設計,便于光路搭建與調整,機械材料: LY12-CZ,表面處理為噴砂氧化黑。3.探測器組件:可編程功率計:顯示屏顯示內容為測量波長、自動/手動量程模式、衰減窗口狀態、當前功率測量檔位;測量精度0.1μW,分辨率0.1μW,支持六擋量程;測量波長范圍380nm~1100nm,功率測量范圍0~200mW;提供實時功率顯示,長期功率檢測,并顯示測量時長、測量時間內的功率變化曲線,提供*大值、*小值顯示,可導出excel數據; USB2.0操作通訊接口。CMOS相機: 130萬像素,分辨率1280×1024,黑白,逐行掃描, 1/1.8″,像素大小5.2μm×5.2μm。4.光學組件:偏振片: Φ25.4mm, K9玻璃窗口, AR@400nm~700nm,消光比>400:1;石英波片: Φ25.4mm,石英晶體,低多級設計,光潔度III級,平行度: <30";成像透鏡: Φ40mm, f=150mm;分光棱鏡: 25.4mm×25.4mm×25.4mm, AR@400~700nm;加強鋁反射鏡: Φ40mm;可調衰減器: Φ50mm,光密度OD: 0~3.0。5.機械組件:精密光學導軌: L×W=1200mm×90mm,配套滑塊、一維移動滑塊,調節支座、支桿;高精度調節鏡架,穩定性<2′。6.空間濾波器組件:40×顯微物鏡, 25μm針孔,精密三維調整機構,微調精度0.002mm。7.軟件組件:常用衍射光學元件庫,微光學元件設計模塊,黑柵效應抑制模塊(線性補償、數字菲涅耳補償), USB2.0軟件鎖。8.實驗手冊及保修卡。
RLE-ME05 輻射度、光度與色度學綜合實驗 實驗簡介 輻射度學、光度學及色度學是現代光電信息轉換、傳輸、存儲、顯示、測量與計量技術的基礎,本實驗的主要目的是使同學掌握“三度學”的基本概念、原理、物理量的互相轉換關系、計算分析方法、測量儀器與測試計量方法等,培養學生利用相關知識、技術和儀器解決實際問題的能力。 實驗內容1、光源輻射度測量實驗;2、光譜儀法測功率實驗;3、光度學基礎實驗;4、光度學定律驗證實驗;5、光源電光效率測量實驗;6、色度學基礎實驗。知識點輻通量、光通量、照度、發光效率、疊加性定律、距離平方反比定律。 選配設備參數計算機(基本配置) 主要設備參數1.光纖光譜儀:波長范圍:350~1000nm;光學分辨率:1nm;狹縫:25um;光纖連接器:SMA905;探測器:2048像元陣列CCD,每個像元14um×200um;信噪比:2000:1;全光譜;A/D分辨率:12bit;積分時間:4ms~6.5s;USB通訊與供電,無需外部電源;通過CE認證;具備外觸發功能;功耗:250mA,5VDC;尺寸:91mm×60mm×34.5mm;重量:0.3kg。2.輻射校準裝置:定標距離150mm;定標波長范圍:380~830nm;雙光闌消雜散光;光闌孔徑分別為5mm和10mm;含**輻射標準燈及校準燈文件。3.照度計:3位半液晶顯示;測量范圍:20/200/2000/20000Lux;分辨率:0.01Lux;準確度:±3% rdg ± 0.5% f.s.(<10,000Lux)、±4% rdg ± 10dgts(>10,000Lux)(以色溫2856K標準平面燈校正);重復性:2%;取樣率:2次/秒;探測器尺寸L×W×H:100mm×60mm×27mm;探測器響應波長:380~780nm。4.輻射式積分球:使用高反射率漫反射涂料Spectraflectò,有效光譜范圍:350-2400nm,反射率>98%@600nm,熱穩定性100℃,激光損傷閾值1.7J/cm2,內徑50mm,兩開口,采樣口配置防塵蓋和SMA905適配器,矩形外形設計,便于加持使用。5.光纖跳線:光纖芯徑:400um;數值孔徑:0.22NA;長度:100±10cm;3mm鎧甲護套;SMA905接頭。6.可調穩壓電源:輸出電壓范圍:0-30V可調,輸出電流范圍0-5A可調;輸出電流范圍:0-2A連續可調;液晶四位顯示;顯示值精度:電壓0.5%、電流0.5%;顯示分辨率:電壓:10mv;電流:1mA;尺寸:160mm×70mm×220mm。7.光源:白光/三色LED,P>1W,亮度連續可調;8.機械組件:精密光學導軌:L×W=1200mm×90mm,配套滑塊、一維平移滑塊、調節支座、支桿。9.軟件組件:光譜分析器軟件:可導入多種格式光譜文件,計算任意波段積分值,可用于功率計算;由光譜數據可得光通量值,內置修正函數。10.實驗手冊及保修卡。
激光是 20 世紀的重大發明之一,由于激光受激發輻射光放大的發光機理,使其具有亮度高、方向性好以及良好的單色性和相干性等優異特性。 因此激光器在現代科學技術各個方面發揮了重要的作用,已經遍及工業、軍事、通信、醫學和科學研究等諸多領域。 目前,我國激光產業正以15%的年均速度迅猛發展,部分國產激光設備和光源技術已達國際先進水平。激光產業未來發展的方向,應是實現激光產業與傳統產業的緊密結合,用先進的激光制造技術改造傳統產業,不僅提升傳統產業的發展,同時也借助傳統產業的優勢,使自身取得廣闊的發展空間。針對激光產業巨大的專業人才需求,結合光電信息科學與工程的人才培養計劃,睿光科技成功研制了激光制造、測試與應用實訓系統。本實訓系統緊扣課本核心知識點、貼合行業測試標準讓、針對實際應用場景,使學生掌握不同類型激光器的原理、構造,激光器光電參數測試方法,熟悉激光加工、激光顯示等行業應用。在強化專業知識的基礎上,提高學生動手能力。工位一、半導體激光器制造工位本工位主要針對半導體激光器制造過程中的核心環節(耦合輸出),訓練學生學習半導體激光器的工作原理及耦合方式。了解耦合的種類,熟悉半導體激光器的組成結構,掌握半導體激光器的耦合調試方法。從原理、結構、操作依次遞進。系統的學習半導體激光器的制造過程和方法。實訓內容:1、半導體激光器空間輸出系統;2、半導體激光器光纖耦合系統;3、半導體激光器耦合效率測量。工位二、固體激光器制造工位半導體泵浦固體激光器具有結構緊湊、轉換效率高等特點,已經成為現代工業應用的主流激光器。睿光科技應用全工業器件和科研級晶體設計的固體激光器制造工位,具有系統開放、調整簡單、知識全面、可定量測量參數等特點。本工位就固體激光器的泵浦源、諧振腔、工作物質等核心知識點進行重點研究。實訓內容:1、固體激光器系統的搭建;2、固體激光器系統倍頻調整。工位三、激光器光譜特性測量工位光譜的線型和寬度與光的時間相干性直接相關,對激光器的輸出特性(如激光的增益、模式、功率等)都有影響,在激光的實際應用中具有重要作用。本實訓工位對中心波長和光譜寬度進行測量,并對影響光譜的因素做出分析。實訓內容:1、中心波長、光譜寬度測量;2、波長-溫度漂移系數測量;3、邊模抑制比測量。工位四、光束質量分析工位本工位主要針對激光的輸出光束,進行了光斑的測量和分析,方便學生更好的了解激光高斯光束的場分布及傳輸和變換特征,為后期的激光顯示、激光打標、激光切割、激光焊接等工位建立基礎,本實訓工位訓練內容嚴格緊貼《激光原理》課程,進一步提高了學生了解和掌握激光光束的能力。實訓內容:1、激光光束寬度測量;2、激光光場分布測量;3、激光遠場發散角測量;4、激光光束質量M2因子測量。工位五、激光功率測量工位激光功率作為激光的重要參數,其準確測量對激光技術的發展至關重要。本工位分別采用不同光敏器件的功率計,對不同波長的激光器進行標定與測量,方便學生更好的掌握激光功率測量的方式和方法。實訓內容:1、熱電功率計的激光功率測量;2、光電功率計的激光功率測量;3、功率計的系數標定。工位六、半導體激光器參數測量工位半導體激光測試是半導體激光器研發、生產、檢驗中必不可少的測試環節,該實訓工位可以快捷、準確、方便的測量半導體激光器的性能參數。該工位的教學目的是使學生掌握半導體器件的基本結構、物理原理和特性,熟悉半導體激光器的工藝和參數測試,為進一步學習相關的專業課程打下堅實基礎。實訓內容:1、多種半導體激光器封裝形式學習;2、波長標定測量;3、LIV曲線測量;4、Klink效應分析。工位七、RGB激光合束工位激光的顯示與現有其他顯示器相比具有不可取代的優勢,其顏色更加鮮艷亮麗、更能反映自然界的真實色彩。本工位采用的合束裝置,具有體積小,性能好、成本低等優點,方便學生更好的了解該理論知識。實訓內容:1、激光合束的光束整形;2、激光彩色顯示的顏色變換調制;3、全彩激光及光譜分色工位。工位八、 激光顯示應用工位激光早在1969年時就已問世,經過長期的發展,該技術已成為繼黑白顯示、彩色顯示、數字顯示之后的下一代顯示技術。激光顯示能實現傳統顯示所達到的所有先進技術指標,并且具有更多傳統光源所無法達到的優勢。本工位的各項內容均參照了真實工業應用案例,著重介紹激光顯示的原理、構造以及應用。實訓內容:1、激光合束系統的調整;2、激光偏轉技術的原理及圖像顯示;3、激光顯示的應用。工位九、光纖激光器制造工位(B型)光纖激光器具有體積小、重量輕、光束質量好、效率高和免維護等特點,成為近年來研究和發展*快的一類新型激光器,在工業、醫療、軍事、通信等諸多領域已獲得重要的應用。本工位系統采用模塊化設計,集設計性、綜合性和創新性于一身,既能夠滿足光電信息科學與工程類本科專業開設《激光原理》、《激光器件》等課程相關實訓的需要,也能夠為學生提供一個開展課外科技創新活動的平臺。實訓內容:1、光纖激光器中泵浦源的特性測量;2、光纖激光器系統的搭建;3、光纖激光器基本原理及特性測量。工位十、光纖激光打標工位(B型)激光打標是一種非接觸、無污染、無磨損的新標記技術。近年來,隨著激光器的可靠性和實用性的提高,加上計算機技術的迅速發展和光學器件的改進,促進了激光打標機技術的發展。本實訓工位依據*新工業標準幫助學生更好的了解激光打標的原理和應用知識。實訓內容:1、激光打標系統的調整;2、激光打標的原理及器件打標;3、激光打標的應用。